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2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速

2024年3月27日 09時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

トッパンフォトマスク、IBMとEUVフォトマスクの共同開発を開始

2024年2月7日 10時08分 TOPPANホールディングス株式会社 　　 　　

3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発

2023年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

「SEMICON Japan 2023」に出展

2023年12月4日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

パーク・システムズ、EUV・インライン用フォトマスクリペア装置「Park NX-Mask」のリリースを発表

2022年10月31日 14時00分 82315466847 　　 　　

大日本印刷、産総研の「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」に参画

2022年6月17日 14時20分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

凸版印刷、半導体原版メーカーを会社分割により設立

2022年4月1日 17時32分 TOPPANホールディングス株式会社