人気ギャルプロデューサー・華プロデュースのコスメブランド＜H×H＞より、まるで加工アプリを使ったような仕上がりを叶えるクッションファンデーションが発売！

株式会社ダイヤコーポレーション（所在地：東京都渋谷区）は、人気ギャルプロデューサー・華によるコスメブランド〈H×H（エイチバイエイチ）〉から、ブランド初となるベースメイクアイテム「retoucH filter foundation #latte(レタッチフィルターファンデーション #ラテ)」を、2022年9月1日（木）10時より発売致しました。

Product

2022年9月1日（木）10時　販売開始

 

 

retoucH filter foundation #latte
きめ細かく、なめらかに補正して隙間なくカバー。
無加工でも”勝ち”続ける顔に仕上げるクッションファンデ

どんな肌色の方でも健康的でオシャレな雰囲気を演出する「ラテ肌」に仕上げる絶妙カラーで、まるで加工アプリを使ったような程よいツヤのある仕上がりを叶えるクッションファンデーション。気品あふれるホワイトフローラルムスクの香り。

レタッチフィルターファンデーション #ラテ
retoucH filter foundation #latte
15g　¥4,180(税込)

POINT01：使用感も、仕上がりも妥協しないこだわりの処方
大きさや形状の異なる複数のパウダーを配合し、素肌の上に隙間なくフィット。
高い密着力で肌悩みをしっかりカバーして、まるでレタッチ後のように美しい肌をキープします。

<高い密着力とテクニックいらずのカバー力>
肌に触れる面積の広いパウダーを配合し、一度のタッチでキメの整ったフラットな肌を演出。均一にパウダーがいきわたることで高い密着感とキープ力をもたらします。

<ふんわりとフィルターをまとったような仕上がり>
光の乱反射を利用したブラー効果のあるパウダーが、ふんわりフィルターをかけたようになめらかな肌を演出。細かく、均一な粒子が自然な素肌感のあるやわらかな仕上がりを叶えます。

<べたつきにくく、軽やかなベースメイク>
皮脂をキャッチするパウダーが、皮脂や汗によるくすみを防止し、透明感を演出。時間がたってもテカりにくく、べたつきにくいストレスフリーな使用感を与えます。

POINT02： きめ細かくなめらかに補正*するテクスチャー
複数のパウダーを配合しているにもかかわらず、肌トーンをきめ細かくなめらかに補正する*テクスチャーを実現。ナチュラルなツヤ感がプラスされ、洗練された上品な印象と健康的な肌印象を共存させます。*メーキャップ効果による

POINT03：メイクする楽しみを奪わせないスキンケア処方
長時間つけるベースメイクアイテムだからこそ、肌への負担を考えてスキンケア成分(CICA)*を配合した高機能ファンデーション。*ツボクサエキス（整肌成分）

POINT04：メイクアップの楽しさを彩るこだわりの香り
気品あふれるホワイトフローラルムスクの香りに包まれてもっと自分史上最高に。ずっとつけていたくなる香りを目指してプロデューサー・華がこだわりました。

全成分：水、酸化チタン、シクロペンタシロキサン、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、プロパンジオール、トリメチルシロキシケイ酸、メチルトリメチコン、イソドデカン、合成フルオロフロゴパイト、アミノプロピルフェニルトリメチコン、ラウリルＰＥＧ－１０トリス（トリメチルシロキシ）シリルエチルジメチコン、硫酸Ｂａ、1,2-ヘキサンジオール、安息香酸アルキル（Ｃ１２－１５）、酸化鉄、（ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン）クロスポリマー、グリセリン、セチルＰＥＧ／ＰＰＧ－１０／１ジメチコン、（アクリレーツ／アクリル酸ステアリル／メタクリル酸ジメチコン）コポリマー、ジステアルジモニウムヘクトライト、シリカ、硫酸Ｍｇ、イソステアリン酸ソルビタン、ポリヒドロキシステアリン酸、オクチルドデカノール、ステアリン酸、トリエトキシカプリリルシラン、アルミナ、水酸化Ａｌ、カプリル酸グリセリル、ジメチルシリル化シリカ、香料、イソステアリン酸ポリグリセリル－４、エチレンジアミンジコハク酸３Ｎａ、ツボクサエキス、ミリスチン酸Ｍｇ、トリイソステアリン酸イソプロピルチタン、トコフェロール

HxHらしさの詰まったクッションファンデーションはファン待望のベースメイクアイテム。誰かと比べる美しさではなく、HxHがもたらす美しさによってどんな時でも自分史上最高であることを大切にしてほしい。そんなプロデューサー・華の想いにより、それぞれの肌色に合わせてハイライトとしても、ブロンザーとしても使える絶妙な色味を実現しました。1周年を迎えたHxHの、更に幅広く広がる今後の商品展開にもご注目ください。


H×H Brand Concept
 

"いつでも自分史上最高でありたい"あなたへ
美しさという最大の武器を

”勝ち”続ける顔
最大の武器は”美しさ”
まるで誘っているかのような、
華やかな色気の中にある、凛とした強さ
H×Hを纏えば、どんな時でも自分らしく輝ける
「いつでも自分史上最高でありたい」
そう願う全ての人のためのH×H(エイチバイエイチ)


華　HANA

1999年10月29日生まれ。大阪府出身。
10代の頃から、アパレル店員やバイヤー、人気雑誌のモデルとして活躍する。自分らしさを貫いたメイクやファッションが多くの同世代女性から支持され、カラーコンタクトレンズやアパレル、様々なアイテムのプロデュースにも携わるまさにカリスマ。Instagramのフォロワー数は35万人を超え、現在では人気アパレルブランドのメインモデルを務めるだけでなく、デザイナー兼ディレクターとしても活動する傍ら、TVやファッションイベントなどに多数出演。そんな彼女が2021年夏、”自分史上最高”でありたいすべての方のためのコスメブランド、H×Hをローンチ。

華
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HxH
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株式会社ダイヤコーポレーション
H×H販売セレクトショップ：AUEID
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