Xella Doi氏(K1 Semiconductor CTO兼共同創業者)が当社顧問に就任

－ 高機能半導体への人工ダイヤモンド材料の活用に向け、本格始動 －

　株式会社ビーマップ（本社：東京都千代田区、代表取締役社長：杉野 文則、以下当社）は、米国シカゴ大学から生まれた最先端のディープテック(※1)・スタートアップ企業であるK1 Semiconductor（本社：米国イリノイ州シカゴ）の共同創業者であり、同社CTOであるXella Doi氏を、当社へ顧問として迎えることとなりましたのでお知らせいたします。

(※1)ディープテック…大学や研究機関レベルの科学的な研究成果や発見に基づく高度な専門性を持つ技術で、かつ、その技術の活用によってグローバルな社会課題の根本的解決を目指そうとするもの。

■Xella Doi氏とK1 Semiconductorについて

　Xella Doi氏は米国コーネル大学工学部で工学物理学を専攻。2019年5月に卒業の後、米国シカゴ大学 プリツカー分子工学部（日本の大学院に相当）に進学し、2025年12月に分子工学の博士号を取得。この間、物理学や分子レベルの応用工学の高度な研究を行うとともに、シカゴ大学在学中の2025年5月に共同創業者としてK1 Semiconductorを立ち上げ、以来現在まで同社のCTOを務めておられます。

　Doi氏も創業に関わったK1 Semiconductorとは、シカゴ大学で開発されたウェハー剥離技術を用い、高性能なエンジニアード基板の社会実装を目指すディープテック・スタートアップ企業で、「1枚の半導体ウェハーから20枚の薄層を切り出す」という、半導体製造のスライシング（切り出し）工程における画期的な新プロセスを開発。この技術は半導体部品、ひいては最終デバイスの大幅なコスト削減に寄与するだけでなく、現状では高価なSiC（炭化ケイ素）、GaN（窒化ガリウム）、LiNbO₃（ニオブ酸リチウム）、InP（リン化インジウム）、ダイヤモンドなど、シリコン以外の高機能半導体材料の活用を後押しする技術として、多くの期待が寄せられています。

　こうした経歴などからDoi氏は、米国の雑誌「Forbes」より2026年度の「30 Under 30 - Manufacturing & Industry（世界を変える30歳未満30人 - 製造・産業部門）」に選ばれるなど、既に米国内では次世代を担う若きリーダーとして注目を集める存在となっています。

※「Forbes」誌による「30 Under 30 - Manufacturing & Industry 2026」の記事

https://www.forbes.com/profile/k1-semiconductor/

■Doi氏の顧問就任に寄せる当社の期待

　既に発表している通り、当社では現在、米国内における人工ダイヤモンド材料の製造・供給を事業として進めております。人工ダイヤモンドはその高耐久性、高信頼性から先端製造、通信、エネルギー、防衛関連分野の次世代技術のコアとなる材料としてその活用が期待されております。当社は最先端の分子工学研究と、それを活かした高機能半導体ビジネスの先頭に立つDoi氏の貴重な知見を、当社の人工ダイヤモンド供給及び製造装置の事業の展開と発展に向けて、大いに活かしていく所存です。

■当社代表取締役社長 杉野 文則よりコメント

　当社は、SpicyCompanyと共に、人工ダイヤモンドの供給及び製造機器の販売に着手します。一方、Doiさんは、人工ダイヤモンドを最終的な半導体材料にする知見をお持ちです。

　例えると、我々が漁師で包丁も販売して、Doiさんが調理人です。密接な関係があります。

　昨年末、Doiさんと共同創業者であるConnor Hornさんが来日して、私の紹介で政府関係者との打ち合わせをしていただき、夜、会食をして親交を深めさせていただきました。

　その後、話が進み、今回、当社の顧問に就任いただきアドバイスをいただくことに大変感謝しております。また、日本人の父をもつDoiさんに日米両国、及び当社と米企業の架け橋になっていただくことを期待しております。