7月31日(月) AndTech WEBオンライン「高感度化フォトレジスト材料の入門 ～化学増幅型レジストからメタルレジストまでの基礎から・ 材料の設計と開発・評価～」Zoomセミナー講座を開講予定
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏 にご講演をいただきます。
高感度化フォトレジスト材料入門セミナー,化学増幅型レジストからメタルレジストまで、それらの基礎・ 材料設計・開発・評価まで幅広く解説！
本講座は、2023年07月31日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ee0f244-a73b-600a-9aeb-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：高感度化フォトレジスト材料の入門
～化学増幅型レジストからメタルレジストまでの基礎から・ 材料の設計と開発・評価～
開催日時：2023年07月31日(月) 13:30-17:00
参 加 費：39,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ee0f244-a73b-600a-9aeb-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
・レジストシステムとレジスト材料について
・化学増幅型レジストシステムについて
・極端紫外線（EUV）レジストについて
・メタルレジストについて
・最先端のレジスト材料の課題について
本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
講演主旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化してきた。前半は、その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について、基礎的な原理を交えて解説する。続いて、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説し、レジスト材料の基礎的な評価方法から、新規なレジスト材料の開発方法について解説する。さらに後半では、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料（分子レジスト、非化学増幅型レジスト、メタルレジスト）について解説する。
プログラム
1.レジスト材料(基礎)
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料(基礎)
2.1 合成方法
2.2 評価方法
3.ネガ型レジスト材料(基礎)
3.1 合成方法
3.2 評価方法
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
4.1 合成方法
4.2 評価方法
5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)
6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)
【質疑応答】
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＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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