9月10日(火) AndTech「ナノインプリント成形プロセスと光学デバイス適用に向けた装置・モールド・樹脂材料の開発」Zoomセミナー講座を開講予定
①山形大学：伊藤氏 ②芝浦機械株式会社：小久保氏 ③三菱ガス化学株式会社：田中氏に、ご講演をいただきます。
R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「ナノインプリント」の課題解決ニーズに応えるべく、複数の専門家による「光学デバイス向け材料開発」について講座を開講いたします。
ナノインプリントの転写技術プロセスの解説から、装置によるフィルム・透明・マイクロレンズアレイモールド製作、UV向け高屈折率硬化性樹脂の材料特性と要求事項についても解説します！
本講座は、2024年09月10日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ef4e42f-51fc-660c-90f1-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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ナノインプリント成形プロセスと光学デバイス適用に向けた装置・モールド・樹脂材料の開発
開催日時：2024年09月10日(火) 13:00-17:30
参 加 費：49,500円（税込） ※電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ef23cdb-4537-671c-a6df-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
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第1部 熱式およびUV式ナノインプリントプロセスによる微細構造転写の基礎・その形成機構
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●山形大学大学院 有機材料システム研究科 教授：伊藤 浩志 氏
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例
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●芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長：小久保 光典 氏
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第3部 光学系硬化用樹脂の開発動向とナノインプリント材料への応用
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●三菱ガス化学株式会社 東京研究所・主任研究員 田中 博康 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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①ポリマーの基礎とインプリント加工性の基礎
②熱式インプリントの加工条件と微細転写性の関係
③紫外線インプリントの加工条件と転写性の関係
④ナノインプリント手法・デバイス作成における問題点・注意点・判断基準
⑤ナノインプリント装置の設計と評価
⑥光学デバイスに使用される樹脂材料について
⑦硬化性材料の光学デバイスへの適用について
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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第1部 熱式およびUV式ナノインプリントプロセスによる微細構造転写の基礎・その形成機構
【講演主旨】
微細構造と光学デバイスや防汚特性などへの応用展開やプロセス、
材料設計などの最新の動向について紹介します。
【プログラム】
1．はじめに
1-1 ポリマーの基礎（特性と高次構造）
1-2 ポリマーの成形加工（インプリント、ロール、射出成形 他）
1-3 成形加工における高次構造と物性
2．熱式インプリントによる微細構造
2-1 バッチ式プロセスによる表面微細構造
2-2 ロールツーロール式による連続微細転写成形
3．ＵＶ式インプリントによる微細構造
3-1 ロールツーロール式による連続微細転写成形
4．微細構造による機能化（光学、防汚性）
4-1 ナノ構造の転写性と機能化
4-2 最新の研究動向
【質疑応答】
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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例
【講演主旨】
低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに
超精密加工機による金型加工にも触れます
【プログラム】
1．芝浦機械株式会社の紹介
2．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴
3．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series
4．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP
【質疑応答】
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第3部 光学系硬化用樹脂の開発動向とナノインプリント材料への応用
【講演主旨】
光学樹脂材料の市場から求められるナノインプリント技術について、
高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』の事例を通して解説します。
また今後ナノインプリントの応用が期待される光学デバイスについて解説します。
【プログラム】
1.光学デバイスへの樹脂材料の展開
1.1 光学デバイスに使用される樹脂材料
1.2 三菱ガス化学の光学材料開発
1.3 光学デバイスへの硬化性樹脂の展開
2.ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの特徴
2.2 ナノインプリント技術の展開
2.3 インプリント成形に求められる材料特性
2.4 微細構造賦形のための転写技術
3.光学デバイスにおけるナノインプリント技術の将来展望
3.1 回折素子への応用
3.2 XR向けインプリント材料
3.3 メタレンズへの応用
【質疑応答】
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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