フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場、2021年から2026年にかけて緩やかな成長見込み

株式会社グローバルインフォメーションは、市場調査レポート「フォトレジストおよびフォトレジスト付属品の世界市場：業界動向、市場シェア・規模・成長率・機会および予測（2021年～2026年）」（IMARC Services Private Limited）の販売を10月6日より開始いたしました。

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市場の概要
フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場は、2020年に38億8,000万米ドルの規模に達しました。今後、2021年から2026年にかけて市場は緩やかな成長を示すと予想されています。
フォトレジストとは、紫外線を照射すると化学構造が変化する有機ポリマーのことです。フォトレジストには、ポジティブフォトレジストとネガティブフォトレジストの2種類があります。 ポジティブなフォトレジストは、紫外線を照射すると可溶化し、ネガティブなフォトレジストは、紫外線を照射すると架橋して不溶化します。フォトレジスト付属品は、フォトレジストと一緒に使用される関連製品です。さらに、反射防止膜、除去剤、現像剤などに分類されています。

市場の成長要因
フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場の主な成長要因の1つは、フラットパネルディスプレイへの使用です。フラットパネルディスプレイは、軽量・薄型でエネルギー効率が高いため、他のディスプレイよりも消費者に好まれ、市場の成長を促しています。さらに、フォトレジストは、コンピュータ、ノートパソコン、音楽プレーヤー、電話、サーバー、家電製品などに欠かせない多層構造の半導体製造において、配線形成に使用されています。これらの製品の需要の増加は、フォトレジストの世界的に魅力的な市場を生み出しています。さらに、ディスプレイ技術の進歩と半導体産業の成長は、今後数年間、フォトレジストとフォトレジスト付属品の需要を押し上げるでしょう。

主要な市場区分
フォトレジスト市場は、製品タイプ別に、KrF、g線・i線、ArFドライ、ArFイマージョンに分類されています。
フォトレジスト付属品市場は、製品タイプに基づいて、反射防止膜、リムーバー、デベロッパー、その他に分類されています。
用途別では、半導体・ICS、LCD、プリント基板、その他に分かれています。
地域別では、北米、アジア太平洋、欧州、中東・アフリカ、ラテンアメリカに分類されています。このうち、アジア太平洋地域は最大の市場であり、世界シェアの大半を占めています。

市場の競合状況
フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場における主要な企業としては、東京応化工業株式会社、JSR株式会社、DuPont de Nemours Inc. Ltd.、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社、住友化学株式会社、Merck Az Electronics Materials、Allresist GmbH、Avantor Performance Materials, LLC、Microchemicals GmbHなどがあります。



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