8月26日(火) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUV、レジスト材料開発、光源システム応用研究、露光用フォトマスクブランクス～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定

兵庫県立大学　渡邊　健夫 氏 、関西大学　工藤　宏人 氏、九州大学　 溝口　計 氏、AGC株式会社 宇野　俊之 氏 にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、EUVリソグラフィの第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUVへの将来展望、基礎とレジスト材料開発例、EUV光源システムおよび応用研究新動向、EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化～」講座を開講いたします。

　本講座では、EUVリソグラフィの基礎とレジスト材料の開発例、半導体の微細化、リソグラフィ光源の進歩、高出力EUV光源開発の課題とその進展、そしてEUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化、そして次世代EUVL技術の今後の展望（High NA EUVL、Hyper NA EUVL, Beyond EUVL）、並びに技術課題と今後の展開について紹介します。

本講座は、2025年8月26日開講を予定しております。 

詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1f04b3f3-3925-6c0c-8db7-064fb9a95405

• Live配信・WEBセミナー講習会　概要

テーマ：EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUVへの将来展望、基礎とレジスト材料開発例、EUV光源システムおよび応用研究新動向、EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化～

開催日時：2025年08月26日(火) 10:45-16:30

参 加 費：60,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定

U　R　L ：https://andtech.co.jp/seminars/1f04b3f3-3925-6c0c-8db7-064fb9a95405

WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

• セミナー講習会内容構成

　ープログラム・講師ー

∽∽───────────────────────∽∽

第1部　Beyond EUVへの将来展望および目指すべき半導体業界の将来像と課題

∽∽───────────────────────∽∽

講師　　兵庫県公立大学法人　兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所, 

            特任教授　次世代EUVL研究寄附部門, PI　理学博士　

　　　　渡邊　健夫　氏

∽∽───────────────────────∽∽

第2部　 EUVリソグラフィの基礎とレジスト材料の開発例

∽∽───────────────────────∽∽

講師　　関西大学　化学生命工学部 化学・物質工学科 教授　

　　　　工藤　宏人　氏

∽∽───────────────────────∽∽

第3部　リソグラフィ用EUV（極端紫外）光源研究の現状と将来展望

∽∽───────────────────────∽∽

講師　　九州大学　客員教授(元ギガフォトン株式会社 シニアフェロー）　

　　　　溝口　計　氏

∽∽───────────────────────∽∽

第4部　EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化に向けた取り組み

∽∽───────────────────────∽∽

講師　　AGC株式会社　技術本部材料融合研究所機能部材部コーティングチーム　／　

　　　　EUV Div. リーダー　宇野　俊之　氏

∽∽───────────────────────∽∽

• 本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題

・次世代EUVL技術の今後の展望（High NA EUVL、Hyper NA EUVL, Beyond EUVL）、技術課題

・EUVリソグラフィの基礎とレジスト材料の開発例

・高出力EUV光源開発の課題とその進展

・EUV光源システムおよび応用研究に関する新動向

・EUVマスクブランクスの特徴と技術課題と量産化

・次世代EUVマスクブランクスの開発

• 本セミナーの受講形式

　WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。

　詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

• 株式会社AndTechについて

　化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

　弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。

　クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。

　　https://andtech.co.jp/

• 株式会社AndTech　技術講習会一覧

一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。

https://andtech.co.jp/seminars/search

• 株式会社AndTech　書籍一覧

選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。

https://andtech.co.jp/books

• 株式会社AndTech　コンサルティングサービス

経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。

https://andtech.co.jp/business-consulting

• 本件に関するお問い合わせ

株式会社AndTech　広報PR担当 青木

メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）

• 下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）

∽∽───────────────────────∽∽

第1部　 Beyond EUVへの将来展望および目指すべき半導体業界の将来像と課題

【講演主旨】

　半導体微細加工技術であるEUVLは、3次元のパッケージング技術と並んで重要な技術である。今後もさらなる微細加工技術が要求されており、High NA EUVLをはじめ、次世代EUVL技術であるHyper NA EUVLおよびBeyond EUVLが検討されている。講演では以上を踏まえて、半導体技術動向、EUVLの技術動向、次世代EUVL技術の今後の展望（High NA EUVL、Hyper NA EUVL, Beyond EUVL）、並びに以上の技術課題と今後の展開について紹介する。また、日本半導体復活に向けて必要な取り組みについても言及する。

【プログラム】

１．はじめ

２．IRDSおよび半導体市場動向

３．EUVLの技術課題

４．High NA　EUVLに向けて

５．次世代EUVLの技術動向
　５－１．Hyper NA EUVLの技術課題と今後の展望
　５－２．Beyond EUVLの技術課題と今後の展望

６．まとめ

質疑応答

【講演者の最大のPRポイント】

　講演者は1993年より半導体関連企業でＸ線縮小露光技術（現、EUVL）の開発に従事し、1996年１月に姫路工業大学（現　兵庫県立大学）に赴任してからもEUVLの基盤技術に従事してきた。これまで、EUVL関連で４つの国家プロジェクトに参画し、国内外の多くの企業との共同研究を進めてきた。2024年９月より、兵庫県立大学高度産業科学技術研究所で次世代EUVL寄附講座で次世代EUVLの基礎研究に従事している。2024年12月に兵庫県科学賞を受賞した。

∽∽───────────────────────∽∽

第2部　EUVリソグラフィの基礎とレジスト材料の開発例

【講演主旨】

　フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線(EUV)露光システムが実用化されている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、ＥＵＶ用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。

【プログラム】

1.   EUV用レジストシステム
　　1.1. ムーアの法則とEUV用レジストシステム
       1.2. EUVレジストシステムの開発の動向
　　1.3. EUV用レジスト材料の開発の必要性について
　　1.4. EUV用レジスト材料に求められる特性

2.  EUV用レジスト材料
　　2.1. ポジ型EUV用レジスト材料（化学増幅型EUV用レジスト材料）
　　2.2. ネガ型EUV用レジスト材料（非化学増幅型EUV用レジスト材料）
　　2.3. メタルEUV用レジスト材料

3.  EUV用レジスト材料の開発例
　　3.1.高感度型EUVレジスト材料
　　3.2.EUV用レジスト材料の今後の課題

質疑応答

【講演の最大のPRポイント】

　講演者はMOFの設計・合成だけでなく、MOFを利用したガス分離・貯蔵、分子認識、バイオ応用、テンプレート合成等、これまで様々な応用研究を行ってきており、種々の利用シーンにおけるMOFの利点や利用法について紹介が可能。

∽∽───────────────────────∽∽

第3部　リソグラフィ用EUV（極端紫外）光源研究の現状と将来展望

【講演主旨】

　最先端リソグラフィのフラグシップが短波長化による微細化で一律にツールが切り変わっていた時代から、複数のアプローチが共存する時代となった。すなわち；
①ロジックデバイス、DRAM：EUVまたは液浸ArF多重露光による微細化
②NAND フラッシュメモリ：KrFエキシマ露光により3D 構造化し容量アップ。
③GPU などの Si オンチップデバイス：パッケージング工程の微細化により中工程（Middle End Process）と呼ばれる。
こうした中で最先端デバイスの製造に欠かせないEUV光源の最近の進展と将来の開発の方向性について、世界の最新動向から解説する。

【プログラム】

1.半導体の微細化とリソグラフィ光源の進歩
　1-1　微細化とリソグラフィの進化
　1-2　Rayleighの式と光源の短波長化の歴史
　1-3　DUV光源の狭帯域化と屈折投影光学系
　1-4　多重露光技術
　1-5　狭帯域化KrFエキシマレーザ
　1-6　狭帯域化ArFエキシマレーザ

2．EUVリソグラフィ
　2-1　EUVリソグラフィと開発の経緯
　2-2　世界の露光装置開発と市場の現況

3．高出力EUV光源開発の課題とその進展
　3-1　高出力EUV光源の開発の経緯
　3-2　高出力ドライバレーザの開発（CO2、固体レーザー）
　3-3　EUVプラズマと変換効率の向上
　3-4　磁場デブリミチゲーション

４. EUV光源システムおよび応用研究に関する新動向
　4-1　文科省Kプログラム
　4-2　九大OIPによるEUVフォトン（株）の紹介

５. おわりに

質疑応答

【講演者の最大のPRポイント】

　エキシマレーザ、EUV光源の製品化開発に長年従事。エキシマレーザーでは世界シェアNo.1（5１％）のギガフォトン社のリソグラフィ光源開発を実現した技術開発の第１人者。

　

∽∽───────────────────────∽∽

第4部　EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化に向けた取り組み

【講演主旨】

　EUVL(極端紫外光リソグラフィ)に用いられる露光光は波長13.5nm近傍の光であり、露光光に対して透明な物質は存在しない。そのため、マスクを含む露光システム内の光学系には、反射光学系が採用されており、マスクに求められる特性は透過型マスクと比較し大きく異なる。要求特性の大きな変化は、ブランクス構造の複雑さを生み、量産化に向けた大きなハードルとなっていた。本講演では、量産化に向けた取り組みと次世代ブランクスの開発の展望について、ご紹介させていただく。

　

【プログラム】

1. EUVマスクブランクスの特徴と技術課題

2. EUVマスクブランクス量産化に向けた取り組み

3. 次世代EUVマスクブランクスの開発

質疑応答

【講演者の最大のPRポイント】

　講演者の２０年以上にわたるEUVブランクスの開発の経験を踏まえて、EUVブランクス開発の歴史、開発・製造に求められる要求性能、更に今後の展望にについて概説する。

　

＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。

＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以　上