10月23日(木) AndTech WEBオンライン「酸化物半導体（IGZO）系材料の基礎・研究開発動向とトランジスタ製造プロセス・次世代メモリへの応用展開」Zoomセミナー講座を開講予定
本分野の第一人者である 東京大学 生産技術研究所 教授 小林 正治 氏にご講演をいただきます。
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる酸化物半導体（IGZO）系材料の次世代メモリへの応用展開での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「酸化物半導体（IGZO）系材料の基礎・研究開発動向とトランジスタ製造プロセス・次世代メモリへの応用展開」講座を開講いたします。
★TSMC・サムスンなどの大手半導体企業も注目、酸化物半導体（IGZO）系材料による次世代DRAM革新。2030年代、3Dメモリ実用化への扉を開く！
★低温プロセス・高移動度・低リーク、ディスプレイで確立されたIGZOからの材料が、今やメモリ材料の本命になってきた
★酸化物半導体の基礎から3D集積応用まで、開発者が押さえるべき最新研究と実用化課題を徹底解説！
本講座は、2025年10月23日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1f08deb0-089a-611e-91fe-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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テーマ：酸化物半導体（IGZO）系材料の基礎・研究開発動向とトランジスタ製造プロセス・次世代メモリへの応用展開
開催日時：2025年10月23日(木) 13:00-16:00
参 加 費：45,100円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1f08deb0-089a-611e-91fe-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
東京大学 生産技術研究所/教授 小林 正治 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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★TSMCやサムスンなどの大手半導体企業が酸化物半導体を次世代DRAM材料とみて注目しており、そのなかでもIGZO系材料が有力候補となり、AIサーバー向けに高集積・低電力化を実現し、2030年代に3D化の実用化が期待されている。
★酸化物半導体（IGZO）は、低温プロセス適合性、高移動度、低リーク特性を有し、既にディスプレイ量産で確立された技術である。この酸化物半導体（IGZO系材料）技術を半導体、特にメモリに搭載する技術に注目がある。
■本講座の注目ポイント
★本講座では開発者に向け、材料物性から成膜・加工プロセス、デバイス構造に至る基礎を体系的に整理し、さらにモノリシック3D集積や三次元メモリといった次世代集積化応用の研究動向を詳述する。設計・プロセス開発の観点から酸化物半導体の実用化課題とポテンシャルを把握し、自社開発への適用や研究戦略立案に直結する知識を獲得できる講座である。
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
株式会社AndTech 技術講習会一覧
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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
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本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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【講演主旨】
IGZOをはじめとする酸化物半導体は、低温形成可能、高移動度、透明、低リーク電流といった特徴を有し、ディスプレイ分野で量産技術として成功を収めた。現在、酸化物半導体の集積デバイス技術応用への期待が高まってきている。特に、プロセッサとメモリアレイを同一チップに集積化するモノリシック3D集積化や、DRAMまたはNAND向けの三次元構造メモリへの応用の期待が高く、半導体メーカーでの研究開発も活発化している。このような状況をふまえて本講演では、酸化物半導体の基礎を解説し、最近の集積デバイス応用に向けた研究開発動向を解説する。
【プログラム】
1．背景
1-1 酸化物半導体のニーズ
1-2
2．酸化物半導体の基礎
2-1 酸化物半導体の材料物性
2-2 酸化物半導体のプロセス技術
2-3 酸化物半導体のデバイス技術
3．三次元集積デバイス応用の研究開発動向
3-1 集積デバイスの現状
3-2 モノリシック三次元集積技術
3-3 三次元構造メモリデバイス
4．まとめ
【質疑応答】
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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