11月20日（金） AndTech　WEBオンライン「原子層堆積法（ALD）の基礎と高品質膜の達成に向けた反応機構の理解および室温三次元成膜ＡＬＤの最新動向と応用」Zoomセミナー講座を開講予定

山形大学　大学院理工学研究科 廣瀬　文彦 氏にご講演をいただきます。

式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる原子層堆積法（ALD）での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「原子層堆積法（ALD）」講座を開講いたします。

ALDの基礎から、吸着・表面酸化の反応機構、プリカーサー・酸化種の選択、モニタリング、成膜条件の調整までを解説！

本講座は、2026年11月20日開講を予定いたします。 

詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1f19ac9d-9a2e-65aa-9ba9-064fb9a95405

Live配信・WEBセミナー講習会　概要

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テーマ：原子層堆積法（ALD）の基礎と高品質膜の達成に向けた反応機構の理解および室温三次元成膜ＡＬＤの最新動向と応用 

開催日時：2026年11月20日（金） 13:00-17:00 

参 加 費：50,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定

U　R　L ：https://andtech.co.jp/seminars/1f19ac9d-9a2e-65aa-9ba9-064fb9a95405

WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

セミナー講習会内容構成

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　ープログラム・講師ー

山形大学　大学院理工学研究科 廣瀬　文彦 氏

本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題

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・吸着反応機構、

・表面酸化 

・モニタリング技術 

・プロセス調整

・関連真空技術

・薄膜評価技術

本セミナーの受講形式

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　WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。

　詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

株式会社AndTechについて

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　化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、

　幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

　弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」

　「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。

　クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。

　　https://andtech.co.jp/

株式会社AndTech　技術講習会一覧

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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。

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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。

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株式会社AndTech　コンサルティングサービス

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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。

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本件に関するお問い合わせ

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株式会社AndTech　広報PR担当 青木

メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）

下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）

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【講演主旨】

原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積での高品質膜の達成のため、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。 

　山形大学ではこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構理解の達成を目標とします。さらに最新研究成果として室温三次元成膜ALDによる各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。

【プログラム】

１．原子層堆積法の基礎 

　1-1.原子層堆積法とは 

　1-2.原子層堆積の開発の歴史 

　1-3.熱ＡＬＤとプラズマＡＬＤ 

　1-4.事例紹介 

２．原子層堆積における表面反応機構 

　2-1.原料分子の吸着反応～ラングミュア―型解離吸着～ 

　2-2.飽和吸着のモニタリング手法 

　2-3.プリカーサーの選択 

　2-4.吸着表面の酸化反応 

　2-5.酸化種の選択 

　2-6.酸化物表面と水の反応 

　2-7.酸化物表面と水素脱離 

　2-8.フォーミングアニールと界面層の問題 

　2-9.不純物モニタリング法 

３．山形大学開発室温三次元成膜ＡＬＤの解説 

　3-1.SiO2の室温形成事例とペットボトル・アクリル樹脂コーティング 

　3-2.生体親和膜TiO2の室温形成事例とペットボトルコーティング 

　3-3.Al2O3の室温形成事例とガスバリア膜応用 

　3-4.HfO2の室温形成事例 

　3-5.Fe2O3の室温製膜事例 

　3-6.連続吸着法による複合酸化膜形成 

　　　アルミニウムシリケート

　　　Zn-Al酸化膜

　　　Zn-Ti酸化膜

　3-7.アルミナシリケート薄膜の室温製膜事例とイオン吸着フィルターへの応用

【質疑応答】

【キーワード】

原子層堆積、薄膜、有機金属ガス、プリカーサー、酸化剤、真空、製膜条件の設定、評価方法

【講演のポイント】

講演者は30年近い研究のキャリアから半導体表面と薄膜堆積に関わる表面反応機構の研究を手掛けてきました。この研究はまさに室温原子層堆積法の開発につながっていきます。講演のなかで、原子層堆積法の開発に至った歴史を振り返りながら、わかりやすく表面機構について解説します。

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＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以　上