日本曹達(ニホンソーダ) 半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」生産能力増強のお知らせ

～3D-NANDフラッシュメモリや車載用・産業用半導体の増加により、需要が拡大～

当社は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」製造設備の生産能力増強を決定いたしましたので、お知らせいたします。

１．本件の目的

 「VPポリマー（ポリパラヒドロキシスチレン）」は、半導体用のフォトレジスト※１材料として使用されております。 当社は独自に開発したリビングアニオン重合技術により、世界に先駆けて「VPポリマー」の商業化に成功したメーカーであり、同重合技術を用いた製法で得られる製品は分子量の分散度が狭く高品質であることから、半導体の品質要求の高度化に応える製品として、フォトレジストメーカーから高い信頼を得ております。

通信技術などの進化に伴い3D-NANDフラッシュメモリの生産量が増加し、また車載用・産業用半導体の需要が中期的に拡大傾向にあることから、フォトレジストメーカー各社はKrFフォトレジスト※１の増産体制の構築を検討しており、「VPポリマー」の供給体制の拡充が強く求められております。 上記の旺盛な需要に対応し、安定的な供給体制を確保するために、「VPポリマー」製造設備の生産能力増強を決定いたしました。

当社は、「VPポリマー」や、樹脂添加剤「NISSO-PB」※２、および「液状1,2-SBS」※３などの機能性ポリマー事業を成長ドライバーと位置付けて拡大発展を目指しております。今後のさらなる需要の増加に対応するとともに、お客様のニーズに応じた新しいポリマー材料の提供にも取り組んでまいります。
 

＜VPポリマー製造プラント棟＞

２．能力増強の概要

(1) 対象工場　 千葉工場（千葉県市原市）
(2) 生産能力　 現状の2倍に増強
(3) 投資金額　 25億円
(4) 完成時期　 2024年度下期
 
 
【日本曹達の「VPポリマー」の特徴】

＜特徴1＞当社独自のリビングアニオン重合技術により製造

　当社が独自に開発したリビングアニオン重合技術を用いた製法で得られる「VPポリマー」は、分子量の分散度が狭く高品質であることから、半導体の品質要求の高度化に応える製品として、フォトレジストメーカーから高い信頼を得ています。

＜特徴2＞KrFレジストは中期的に拡大

　KrFレジストは3D-NAND型フラッシュメモリや車載用途などで使用されており、データセンターの増加や、自動車のEV化、自動運転化の進展に伴う半導体積載数の増加による、中期的な需要の拡大が見込まれています。

＜特徴3＞幅広い製品ラインナップ、技術・開発支援

　幅広い製品ラインナップから、お客様のニーズに合わせた最適な銘柄提案と技術・開発支援をいたします。

  
※1…フォトレジスト材料は半導体製造工程における必須材料であり、使用する光源でいくつかに分類されている。KrFを光源とする材料は3D-NAND方式の浸透、設備投資の優位性により、汎用半導体から先端半導体まで幅広く使用されている。

※2…当社独自のリビングアニオン重合技術によって得られる液状ポリブタジエンであり、1,2ビニルユニットが多いことが特長。ポリマー骨格が炭素と水素で構成されるため、経時劣化が少なく、耐水性、耐薬品性、電気特性、機械的強度、耐熱性に優れる。樹脂改質剤、電子材料、塗料、接着剤など、幅広い用途での利用が可能。

※3…既存のSBS [ Poly (styrene-block-butadiene-block-styrene)] と比較してブタジエンユニットに1,2-ビニル基を多く含有しており、架橋性、低誘電特性、耐熱性、耐水性、耐油性などに優れる。当社がポリマー事業の注力分野と位置付けている電子材料用途、とりわけ5G通信向け用途における需要が期待できる。




■日本曹達株式会社について

 

日本曹達は1920年の創立以来、独自の技術とノウハウを蓄積し、農業、医薬品、特殊化学品など多岐にわたる分野で高機能・高付加価値の化学製品を提供してまいりました。また、化学物質を取り扱う企業として、レスポンシブル・ケアの考え方を常に意識し、環境、安全、健康に配慮した事業活動を行ってまいりました。これからも独創的な技術や製品を通じて、新たな価値を創造し、豊かな社会づくりに貢献していきます。

参照URL：日本曹達株式会社 ( https://www.nippon-soda.co.jp/ )

【お問い合わせ先】
日本曹達株式会社　総務部広報・ＩＲ課　担当：駒
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