日本国内のゾル-ゲル科学技術の最新動向をまとめたシリーズが、6年ぶりに発売!!

書籍『ゾル-ゲル法の最新動向』(監修:名古屋大学/中西和樹)が7月31日に発売。

株式会社シーエムシー出版

化学・電子工学などの技術・市場動向レポート発行やセミナー開催を行う、株式会社シーエムシー出版(本社:東京都千代田区、代表:辻賢司)は、書籍『ゾル-ゲル法の最新動向』(監修:名古屋大学/中西和樹)を2023年7月31日に発刊いたします。
定価は税込82,500円(本体価格75,000円+税)で、当社ECサイトおよび全国の書店でご注文を受け付けております。
目次などの詳細については以下の当社サイトをご覧ください。
https://www.cmcbooks.co.jp/products/detail.php?product_id=9175


監修:中西和樹(名古屋大学)

発行日:2023年7月31日

体裁:B5判、436ページ

ISBNコード:978-4-7813-1743-4

価格(税込):82,500円


  • 刊行にあたって

 2023年はゾル-ゲル科学技術に関する国内唯一の学術団体である「日本ゾル-ゲル学会」の創立から20年であり、また同じく国際組織であるInternational Sol-Gel Society (ISGS)の創設からも20年を迎えた。

 日本の研究者はゾル-ゲル科学技術に関して黎明期から常に研究開発における先進的な地位を占め、多くの企業による関連技術の社会実装を通して、この技術分野に多大な貢献を続けてきた。この科学技術に関する国内学会を設立し、恒常的な活動を続けてきたのも日本のみである。2000年以降これまでに、日本ゾル-ゲル学会の初代会長を務められた作花済夫京都大学名誉教授をはじめとする同会会長経験者を中心に、日本国内のゾル-ゲル科学技術の最新動向をまとめたシリーズがこれまでに計5巻出版され、好評を博してきた。2019年に会長を引き継いだ小職が、今般、前巻から6年を隔して、最新の学術および技術動向を監修する好機を頂いたことは格別な喜びである。

 本書が専門家のみならず初学者や異分野の研究者・技術者にも広く読まれ、ゾル-ゲル科学技術の材料プロセシングへの幅広い貢献と有用性が理解されて、さらに広く新しい分野へと適用されていくための、見通しの良い案内役となることを願って止まない。(「刊行にあたって」より抜粋)


  • 著者一覧

中西和樹   名古屋大学
ジョン バートレット   西シドニー大学
郡司天博   東京理科大学
速水良平   元・東京理科大学
山本一樹   東京理科大学
金子芳郎   鹿児島大学
菅原義之   早稲田大学
鈴木涼子   早稲田大学
金森主祥   京都大学
松野敬成   早稲田大学
黒田一幸   早稲田大学
下嶋 敦   早稲田大学
内山弘章   関西大学
髙橋雅英   大阪公立大学
武藤浩行   豊橋技術科学大学
横井敦史   沼津工業高等専門学校
ほか 計59名


  • 目次

【Ⅰ.序論】

第1章 ゾル-ゲル科学技術の国際動向


【Ⅱ.基礎編:反応,構造制御,構造形成】

第1章 ホスファチタノキサンの合成

第2章 構造制御されたシルセスキオキサンおよびシロキサン類の創製

第3章 有機-無機ハイブリッド材料の創成〜金属アルコキシドと層状物質を用いた研究展開〜

第4章 ゾル-ゲル法によるシロキサン網目形成と透明エアロゲルの作製

第5章 自己組織化プロセスによる階層構造制御

第6章 超低速ディップコーティングによる有機物フリー金属塩水溶液からのセラミック膜の作製

第7章 結晶方位を制御した金属有機構造体薄膜

第8章 ナノ集積技術の開発

第9章 ナノシートの合成と集積化による高機能材料の創成

第10章 水溶液プロセスによる無機ナノフレーク・ナノシートのボトムアップ合成

第11章 ナノ結晶粒子濃厚ゾルからのゲル体の形成~各種構造制御と機能~

第12章 ゾル-ゲル法により作製されるガラス薄膜とセラミック薄膜の面内残留応力の不安定性


【Ⅲ.機能編:光,電気,化学,生体関連】

第1章 マイクロポーラス構造を制御したシリカ系多孔膜

第2章 金属酸化物ナノ粒子分散体の調製と有機無機ハイブリッド透明材料への応用

第3章 金属ナノ粒子分散機能材料の創成

第4章 無機クラスターを活用した水溶液プロセスによる蛍光体の合成

第5章 固体窒素源と液相プロセスで調製した金属(水)酸化物前駆体を用いたサステイナブルな金属酸窒化物の合成

第6章 プラズモニクスを利用した新機能材料の創成

第7章 光機能性シリカガラスの合成

第8章 微細構造制御による高機能蛍光体の合成

第9章 化学溶液法と光結晶成長の融合による電気・光機能性酸化物成膜

第10章 シルセスキオキサンを用いた感光性光学材料の開発

第11章 多様な形態のポーラスシリカを応用した1 nmの領域で発現する新規機能性の開拓

第12章 自動車用熱線カットコーティング(高耐久厚膜コーティング技術)

第13章 電池材料

第14章 ゾル-ゲル法を用いたプロトン伝導体の開発動向

第15章 イオン伝導性複合体

第16章 ハード柔軟性を有する低密度フェノール樹脂

第17章 超伝導薄膜

第18章 ゾルゲル法による強誘電体薄膜の開発

第19章 誘電体単結晶ナノキューブの二次元規則配列集積技術と構造・物性評価

第20章 バイオメディカル分野におけるシリカゲル材料


【Ⅳ.開発動向編】

第1章 ハイブリッド金属水酸化物の開発とイオン交換・自己修復性電極への応用

第2章 固体前駆体を用いた金属有機構造体(MOF)の合成と応用

第3章 カーボンドットを用いた複合発光材料

第4章 金属水酸化物ナノコロイド

第5章 スプレーコーティングによるガラスのアンチグレア処理

第6章 複合アニオンナノシートコロイド

第7章 メソポーラス薄膜

第8章 プラズモニック材料


★詳細カタログはコチラ★

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会社概要

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業種
情報通信
本社所在地
東京都千代田区神田錦町1-17-1 神田高木ビル2F
電話番号
03-3293-7051
代表者名
金森洋平
上場
未上場
資本金
3200万円
設立
1961年10月