【11/22開催】第1回エッジ茶論のご案内:セラミック材料の厚膜堆積技術による医療分野への新展開

エッジ茶論(サロン)は、先端技術の最新動向をテーマに、技術者や研究者、新規事業担当者が気軽な雰囲気で意見交換を行う「新川崎・創造のもり」を拠点としたセミナーです。
各回さまざまな講師の話題提供のあと、参加者全体でのフリーディカッションを行います。
従来の業界の枠組みの中からは提供できなかった、新しい価値を生み出すための場を提供いたします。
是非皆様のご参加をお待ちしております。

2023年11月22日(水)、第1回エッジ茶論として、

国立大学法人東京工業大学 工学院機械系 准教授 赤坂 大樹 氏より

「超音速粒子投射による複合材料厚膜の高速形成」

をテーマに開催いたします。是非ご参加くださいませ。

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 【第1回エッジ茶論】

  2023年11月22日(水) 15:30~17:00


 (開催方法)

  完全オフライン開催



(会場)

  新川崎・創造のもり「AIRBIC」第8会議室

  川崎市幸区新川崎7番7号


(参加費)

 500円・当日お支払い


(参加申込URL)

  https://www.city.kawasaki.jp/280/page/0000155486.html


(開催概要)

 エッジ茶論(サロン)は、先端技術の最新動向をテーマに、技術者や研究者、新規事業担当者が

  気軽な雰囲気で意見交換を行う「新川崎・創造のもり」を拠点としたセミナーです。

  各回さまざまな講師の話題提供のあと、参加者全体でのフリーディカッションを行います。

 従来の業界の枠組みの中からは提供できなかった、新しい価値を生み出すための場を提供いたします。

  是非皆様のご参加をお待ちしております。


 (タイムスケジュール)


 ■15:30~15:40 開催挨拶・施設紹介


 ■15:40~16:30 講演

 [タイトル]

 超音速粒子投射による複合材料厚膜の高速形成

[講師]

 国立大学法人東京工業大学 工学院機械系 准教授 赤坂 大樹 氏

[紹介文]

  金属等の粒子を超音速で目的の基材に投射・衝突させて厚膜を形成する

  コールドスプレー法を用いて、炭素材料を含む低摩擦係数を有する複合材料膜や、

  アパタイト含むチタン基生体材料厚膜等を高速に堆積します。

  本手法はプロセス温度を金属粒子の融点まで上げる必要がなく、

  炭素やアパタイトなど高温での機能維持が難しい材料も金属中に導入できます。

  更に堆積速度も比較的高く、“cm” オーダの厚さの膜も形成できます。


 ■16:30~17:00 交流会

 講師と参加者とのディスカッション


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 主催:川崎市 企画運営:株式会社キャンパスクリエイト(電気通信大学TLO)

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会社概要

URL
https://www.campuscreate.com
業種
サービス業
本社所在地
東京都調布市調布ヶ丘1-5-1 電気通信大学内
電話番号
042-490-5734
代表者名
髙橋 めぐみ
上場
未上場
資本金
8160万円
設立
1999年09月