6月20日(月) 　AndTech「EUV リソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向と要求特性・将来展望」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

兵庫県立大学 渡邊　健夫　氏、富士フイルム(株)　藤森　亨　氏、リソテックジャパン(株)　関口　淳　氏にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVリソグラフィーでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィレジスト」講座を開講いたします。

EUVレジスト材料プロセス開発の現状と今後の展望を紹介、EUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発について解説、メタルレジストの特徴と評価方法についても解説！
本講座は、2022年06月20日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=9720

 

• Live配信・WEBセミナー講習会 概要

テーマ：EUV リソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向と要求特性・将来展望
開催日時：06月20日(月) 12:30~16:45
参 加 費：44,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=9720
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

 

• セミナー講習会内容構成

ープログラム・講師ー

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第1部 EUV リソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向とBeyond EUV への将来展望
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講師 兵庫県立大学 学長特別補佐（先端科学技術・異分野融合研究推進担当） 高度産業科学技術研究所長特別補佐 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長 教授 渡邊 健夫 氏


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第2部 EUVリソグラフィ用フォトレジスト開発
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講師 富士フイルム(株) エレクトロニクスマテリアルズ事業部 エレクトロニクスマテリアルズ研究所 シニアエキスパート 藤森 亨 氏


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第3部 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
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講師 リソテックジャパン(株) ナノサイエンス研究部 部長 博士（工学） 大阪公立大学 大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏

 

• 本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題

リソグラフィの基礎、フォトレジスト材料の歴史、最新動向に関する知識
EUVリソグラフィーの基礎知識
EUVフォトプロセスの最適化方法の習得
EUVフォトプロセスの評価方法の習得

 

• 本セミナーの受講形式

WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

 

• 株式会社AndTechについて

化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/

 

• 株式会社AndTech 技術講習会一覧

一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminar_category/

 

• 株式会社AndTech 書籍一覧

選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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• 株式会社AndTech コンサルティングサービス

経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
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• 本件に関するお問い合わせ

株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）

 

• 下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）

第1講 EUV リソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向とBeyond EUV への将来展望

【講演趣旨】
EUVリソグラフィー技術は2019年より最先端の半導体量産技術として適用され、本格的には2020年より開始されました。しかしながら、5 nm世代以降では未だ多くの技術課題を抱えています。特に、EUVレジスト開発は最も重要な技術課題を抱えています。当セミナーでは、基礎的な内容に立ち返ってEUVレジスト材料プロセス開発の現状と今後の展望を紹介致します。皆様の今後の技術開発にお役に立てれば幸いです。
 
 
【プログラム】
1．半導体微細加工の技術動向
1-1 なぜEUVリソグラフィーか？
1-2 EUVリソグラフィーとは？
2．半導体レジスト材料・プロセス技術
2-1 半導体レジスト材料・プロセス技術の歴史・変遷
2-2 EUVレジストの技術課題
3．EUVレジストの技術課題解決に向けて
3-1 レジストの課題に対する様々な基礎的な取り組みの必要性
    3-2 低LWR用レジスト開発に向けた基礎研究
3-3 レジストの高感度化に対する基礎研究
3-4 パタン倒れ抑制への基礎研究
3-5 その他必要な基礎研究
4．EUVリソグラフィー技術の今後の展開
4-1 EUVLの短波長化に向けた取り組み
4-2 日本の世界に於ける半導体技術覇権の課題解決に向けた取り組み
5. まとめ
 
【質疑応答】


第2講 EUVリソグラフィ用フォトレジスト開発
 
【講演趣旨】
昨今、私たちは新たなデジタル社会を迎え入れようとしている。世の中で頻繁にその言葉を耳にするSociety 5.0、IOT、AIの発展に対し、さらなる電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められており、その勢いはとどまるところを知らない。その実現に不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、それに必要なフォトレジスト材料の開発である。フォトレジスト材料の微細化の歴史および究極の微細化とまで言われているEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発について解説する。
 
【プログラム】
1．私たちの世の中を取り巻く環境の変化
アナログからデジタルへ
2．リソグラフィ微細化の歴史
2-1 ムーアの法則を実現する露光波長短波化によるリソグラフィの微細化
2-2 EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命
2-3 ArF液浸リソグラフィ延命の切札、
富士フイルムによるNegative tone imaging（NTI）技術の発明
3．EUVリソグラフィ
3-1 EUVリソグラフィの歴史
3-2 国家プロジェクトであるEIDEC（EUVL基盤開発センター）出向時の
EUVリソグラフィ要素開発の経験紹介
（アウトガス問題の解決と世界アライン、メタルレジストの技術開発）
3-3 EUVレジスト最新動向、技術開発の紹介
ストカスティック因子低減と量産適用に対する開発、
NTI技術のEUVリソグラフィへの適用
 
【質疑応答】


第3部 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

 
【講演趣旨】
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

 
【プログラム】
1．EUVLの概要
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト
2．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置
3．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
    3.3 屈折率nk測定
3.4 EUV2光束干渉露光
4．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点
5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
 
【質疑応答】


＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以 上