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IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！

2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版 　　 　　

ＤＩＣ、カナダの半導体フォトレジストポリマーメーカーPCAS Canada Inc.社を買収

2023年6月2日 09時21分 ＤＩＣ株式会社 　　 　　

10月25日(火) AndTech　WEBオンライン「高感度化フォトレジスト・メタルレジスト材料の設計と開発・評価」Zoomセミナー講座を開講予定

2022年9月16日 15時19分 AndTech 　　 　　

6月20日(月) 　AndTech「EUV リソグラフィ・レジスト材料の基礎・最新動向と要求特性・将来展望」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

2022年6月9日 11時52分 AndTech 　　 　　

【新刊案内】レジスト材料の基礎とプロセス最適化 著者：河合　晃　発行：（株）シーエムシー・リサーチ

2021年12月6日 09時30分 CMCリサーチ 　　 　　

フォトレジスト用化学薬品の市場規模、2028年に54億9502万米ドル到達予測

2021年8月11日 11時00分 GII 　　 　　

メルク、フォトレジストを効率的に除去する環境に配慮したグリーンケミストリーの新シリーズを発表

2018年10月9日 11時00分 メルク株式会社