NEC、グローバル調査会社Frost&Sullivanによる生体認証市場調査でグローバルリーダーの評価を獲得

日本電気株式会社

NECはグローバル調査会社であるFrost&Sullivan(注1)の「フロストレーダー™:2022年のセキュリティにおける生体認証市場調査」(注2)で、前回2020年の調査に続き、2回連続で「Market Leader」の評価を受けました。NECの生体認証ソリューションの継続的な開発・強化の取り組みがグローバル市場における事業拡大へとつながっていると評価されました。


今回の市場調査でFrost&Sullivanは、NECの幅広い生体認証事業ポートフォリオに対する継続的なイノベーションの成果として、NECがフロストレーダー™における2つの評価軸、成長指数とイノベーション指数の両方でリーダーシップのスコアを獲得したと評価しました。


 さらに、アナリストからは、分散型IDや自己主権型IDといった今後生体認証の活用が進むと見込まれる分野におけるソートリーダーシップ活動に加え、先端技術の利活用における人権やプライバシーの保護に関する積極的な取り組みも高く評価されました。
 
 NECは、今回の評価を受け、生体認証技術のさらなる強化や新たな製品・サービスの開発のみならず、それらがエンドユーザーや社会に与える影響について、ステークホルダーとの対話を重ねることで、生体認証がより便利に、安心して活用される世界の実現を目指します。
 
 本件に関するFrost&Sullivan、NECのコメントは以下の通り。
  

Frost&Sullivan 

「NECは生体認証業界のリーダー企業として、質の高いソリューションにより既存・新規双方の顧客の需要に応えています。また、利用者が自分自身で生体情報を管理する「自己主権型ID」にもいち早く取り組むなど、業界を牽引する役割を担っています。」
 Frost &Sullivan
 Industry Manager, Commercial & Public Security
 Danielle Zandt
  

NEC 

「NECは現在、世界約70の国と地域で生体認証事業を展開しています。近年では、マレーシアやベトナムの国家プロジェクトに生体認証技術を提供し、行政サービスのデジタル化に寄与しました。また、NECの生体認証は世界トップレベルの技術を有しており、2022年に行われた米国国立標準技術研究所「NIST」(注1)が主催するベンチマークテストにおいて、顔認証や虹彩認証技術がともに世界No.1の評価を獲得しました(注2)。2023年にはこの成果を最大限に活かし、顔認証と虹彩認証をみ合わせたマルチモーダル生体認証ソリューションの提供に加え、web3など新たな領域での生体認証の活用に注力していきます。」
 NEC
 生体認証・映像分析統括部
 シニアディレクター
 吉川 正人
 
 以上
  
 (注1) https://frost.co.jp/about/
 (注2) https://jpn.nec.com/biometrics/evaluation/frostradar2022/index.html
 (注3) The National Institute of Standards and Technology
 https://www.nist.gov/
 (注4) FRVT Ongoing 1:N Identification (2022Jan) の Leaderboard [Identification (T>0)] における Gallery: Mugshot, Probe: Mugshot, N=12000000 とGallery: Border, Probe: Border ΔT≧10YRS, N=1600000 とGallery: Mugshot, Probe: Mugshot ΔT≧12YRS, N=3000000 の3カテゴリでNo.1を獲得
 IREX 10: Identification Track (2022Sep) の、Two-eye Accuracy、Single-eye Accuracy、Rank Accuracyの3カテゴリでNo.1を獲得
 NISTによる評価結果は米国政府による特定の製品、サービス、企業を推奨するものではありません。
  
  
 <2022 Frost Radar(NEC Webサイト)>
 URL:https://jpn.nec.com/biometrics/evaluation/frostradar2022/

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会社概要

日本電気株式会社

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URL
https://jpn.nec.com/
業種
情報通信
本社所在地
東京都港区芝5丁目7-1
電話番号
-
代表者名
森田 隆之
上場
東証1部
資本金
-
設立
-