6月7日(水) AndTech WEBオンライン3か月連続学習講座「ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工入門」Zoomセミナー講座を開講予定
リソテックジャパン株式会社／大阪公立大学 ナノサイエンス研究所 所長 博士（工学）/大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏 ご講演をいただきます。
昨今市場の増加が見込まれるリソグラフィ技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師陣からなる「半導体微細加工入門 」3か月連続学習講座を開講いたします。
ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工について説明します。
本講座は、2023年06月07日に第一講を開講予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1edd769d-561d-6c3e-bfbd-064fb9a95405
AndTech オンラインLive配信・WEBセミナー オンライン学習講座会 概要
テーマ：ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工入門
開催日時：2023年06月07日(水) 13:30-16:30 （第2講 7月5日（水） 第3講 8月2日（水） ）
参 加 費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定（2名受講同額料金）
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1edd769d-561d-6c3e-bfbd-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
リソテックジャパン株式会社／大阪公立大学 ナノサイエンス研究所 所長 博士（工学）/大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
【第1回】ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際
（日時：06月07日(水) 13:30-16:30 、学習時間：3時間）
【第2回】ナノインプリント技術の概要と実際
（日時：07月05日(水) 13:30-16:30、学習時間：3時間）
【第3回】EUV露光技術の概要と実際
（日時：08月02日(水) 13:30-16:30、学習時間：3時間）
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
ArFレジストの概要、ArF液浸レジストの概要、およびプロセス評価技術
ナノインプリント・リソグラフィの概要、インプリント用レジスト材料、および評価技術
EUVリソグラフィの概要、EUV用レジスト材料、および評価技術
本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
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弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
【第1回】ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際
【講演主旨】
「ArFリソグラフィ～EUVリソグラフィ・ナノインプリントによる半導体微細加工入門」のタイトルで、先端リソグラフィ技術について、３回にわたって解説いたします。第１講義は、「ArFおよびArF液浸露光技術の概要と実際」です。ArFレジストの概要、ArF液浸レジストの概要、およびプロセス評価技術につて解説します。
【プログラム】
1．ArFリソグラフィー技術（アクリル系レジスト）の概要と評価
1.1 ArFリソグラフィーの基礎
1.2 アクリル系レジスﾄの概要
1.3 ArFレジストの評価（１）現像中の膨潤の評価
1.4 ArFレジストの評価（２）PAGから発生する酸の拡散長の評価
2．ArF液浸リソグラフィーの基礎
2.1 ArF液浸レジストの評価（１）液浸液のレジスト膜中への浸透の評価
2.2 ArF液浸レジストの評価（２）PAGから発生する酸のリーチングの評価
2.3 ArF液浸レジストの評価（３）リソグラフィー・シミュレーションによる検討
【演習・質疑応答】
【第2回】ナノインプリント技術の概要と実際
【講演主旨】
第２講義は、ナノインプリント・リソグラフィについてです。ナノインプリント・リソグラフィの概要、インプリント用レジスト材料、および評価技術について解説します。また、サーマルインプリント、UVインプリントの概要を示し、インプリント材料の評価方法、モールドの洗浄技術、将来的なアプリケーションについても解説します。
【プログラム】
1．ナノインプリントリソグラフィー（NIL)技術の概要
1.1 プロセス評価用ナノインプリント装置
1.2実験用熱・光対応ナノインプリント装置
1.3 実験用熱インプリント装置
1.4 実験用ロールTOロールナノインプリント装置
1.5 実験用 卓上インプリント装置
1.6 ナノインプリント用アライメント装置
2．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置の開発
3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
4．原子状Hによるモールドのクリーニング技術
5．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
【演習・質疑応答】
【第3回】EUV露光技術の概要と実際
【講演主旨】
第３講義は、現在、最も注目される最先端技術であるEUVリソグラフィについての講義です。EUVリソグラフィの概要、EUV用レジスト材料、および評価技術について解説します。また、特に、今、最も注目を集めているEUVメタりレジストについて詳しく解説します。さらに、今年の２月にアメリカ・San Joseで開催されたマイクロリソグラフィの国際学会（SPIE）での最新情報もご紹介します。
【プログラム】
1． EUVリソグラフィーの概要と評価
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト
2．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置
3．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3 金属付与PAGによる高感度化の検討
3.4 屈折率nk測定
3.5 EUV2光束干渉露光
4．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点
5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
６．SPIEでの最新EUV情報のご紹介
【演習・質疑応答】
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＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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