​【セミナーご案内】泡の発生メカニズムとその評価および消泡・脱泡技術　12月16日（月）開催　主催：(株)シーエムシー・リサーチ

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「泡の発生メカニズムとその評価および消泡・脱泡技術」と題するセミナーを、 講師に塚田 隆夫 氏（東北大学大学院 工学研究科 化学工学専攻 教授）をお迎えし、2019年12月16日（月）10:30より、 『ちよだプラットフォームスクエア』B1F（千代田区錦町）で開催いたします。 受講料は、 一般：46,000円（+税）、 弊社メルマガ会員：41,000円（+税）、 アカデミック価格は24,000円となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
　https://cmcre.com/archives/50185/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。

各種工業操作においては、気泡あるいは泡沫が関与する現象やトラブルが数多く存在し、気泡や泡沫の発生、成長機構を理解し、そして制御あるいは除去することが極めて重要です。そこで、本セミナーでは、気泡や泡沫の生成、成長、運動、崩壊に関わる基本メカニズムを理解して頂くとともに、それらの制御、安定化及び除去法について紹介致します。また、気泡現象の数値シミュレーションについても言及することに致します。

1）セミナーテーマ及び開催日時 
テーマ：泡の発生メカニズムとその評価および消泡・脱泡技術
開催日時：2019年12月16日（月）10:30～16:30
会 場：ちよだプラットフォームスクウェア B1F
　　〒101-0054 東京都千代田区神田錦町3-21
参 加 費：46,000円（+税） ※ 資料付
　　＊ メルマガ登録者は 41,000円（+税）
　　＊ アカデミック価格は 24,000円（+税）
講 師：　塚田 隆夫 氏 東北大学大学院 工学研究科 化学工学専攻 教授

【セミナーで得られる知識】
　“泡”全般に関する知識

2）申し込み方法 
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
  https://cmcre.com/archives/50185/
からお申し込みください。
折り返し、 聴講券、 会場地図、 請求書を送付いたします。 

3）セミナープログラムの紹介 
1．はじめに

2．気泡の生成と運動
　2-1．表面張力と濡れ
　2-2．気泡の生成メカニズム
　2-3．気泡の運動と変形

3．泡沫の生成と崩壊
　3-1．泡沫の生成とその安定性
　3-2．泡沫の崩壊メカニズム

4．泡の測定法
　4-1．起泡力と安定性の測定
　4-2．泡沫のキャラクタリゼーション

5．消泡・脱泡技術
　5-1．物理的消泡技術
　5-2．化学的消泡技術（消泡剤の利用）
　5-3．脱泡技術

6．各種装置内の気泡特性
　6-1. 気泡塔
　6-2. 攪拌槽

7．気泡現象の数値シミュレーション

8．おわりに

4）講師紹介
【講師略歴】
昭和59年3月 東北大学大学院 工学研究科（化学工学専攻）博士課程後期3年の課程修了（工学博士）
昭和59年4月 東北大学・非水溶液化学研究所・助手
平成2年2月 東北大学・非水溶液化学研究所・講師
平成3年9月 東北大学・反応化学研究所・助教授
平成13年4月 東北大学・多元物質科学研究所・助教授（改組による配置換）
平成17年4月 大阪府立大学・工学研究科・教授
平成20年10月 東北大学・工学研究科・教授


5）セミナー対象者や特典について 
★ アカデミック価格：学校教育法にて規定された国、 地方公共団体、 および学校法人格を有する大学、 大学院の教員、 学生に限ります。 
★ 2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、 2人目は無料、3名目以降はメルマガ価格の半額となります。 

【セミナー対象者】
各種工業の製造、開発などで「泡」の問題に携わる方、興味ある方ならどなたでも。

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
　https://cmcre.com/archives/50185/

6）関連セミナーのご案内 

☆開催予定のセミナー一覧はこちらから！↓
https://cmcre.com/archives/category/seminar/seminar_cmc_f/

7）関連書籍のご案内

☆発行書籍の一覧はこちらから↓
　https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　以上