STの先端半導体技術、次世代モバイル・ネットワーク・インフラの基盤を構築

STのBiCMOS技術を採用したRFトランシーバIC、ミリ波帯のスペクトル効率の向上で、モバイル・ネットワークのバックホールにおける10Gbps超のデータ転送レートを実現

多種多様な電子機器に半導体を提供する世界的半導体メーカーのSTマイクロエレクトロニクス（NYSE:STM、以下ST）は、次世代モバイル・ネットワークにおける高い電力効率かつ大容量の伝送システムの開発を目指すヨーロッパの研究開発イニシアティブ「E3NETWORK」に、STの先端技術であるBiCMOS55 SiGe(1) が採用されたことを発表しました。

モバイル機器によるデータ使用量の急増に伴い、ネットワークは大容量化と高いデータ転送レートへの対応が求められています。これは、バックホールのインフラに新たな課題を提起し、ヘテロジニアス・ネットワークおよびクラウドRAN（無線アクセス・ネットワーク）などの先進的なネットワーク・アーキテクチャへの移行や、E-band(2)といったより高い周波数帯への移行を加速させています。

このような超高効率モバイル・ネットワークを構築するため、機器メーカーは、大規模なチップ集積化、低消費電力化、コスト最適化を組み合わせた、高性能な電子部品を必要としています。E3NETWORKは、55nmリソグラフィーで320GHzのFtを達成するヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ（HBT）を搭載したSTのBiCMOS55 SiGeテクノロジーによる高集積化と低消費電力化のメリットを活用します。この技術は、高周波アナログ・ブロックと高性能・高密度デジタル・ブロック（ロジック、AD/DAコンバータ、メモリなど）の集積を可能にします。

E3NETWORKは、フロントホール / バックホール・インフラ向けに、STのBiCMOS55テクノロジーを採用した集積型E-bandトランシーバを設計しています。このトランシーバICは、複数レベルのデジタル変調、収束性の高い「ペンシルビーム」伝送、および10Gbpsを超えるデータ転送レートを可能にします。ペンシルビームの特性は、ミリ波帯全体のスペクトル効率を保ちながら、バックホールおよびフロントホール接続配置において高水準の周波数の活用を促進します。

EUの第7次研究開発フレームワーク計画（FP7）に基づくE3NETWORK（「未来のネットワークにおけるバックホールに向けた高電力効率E-bandトランシーバ」）には、CEIT（スペイン）、Fraunhofer（ドイツ）、Alcatel Lucent（イタリア）、CEA（フランス）、INXYS（スペイン）、OTE（ギリシャ）、SiR（ドイツ）、Sivers IMA（スウェーデン）、STマイクロエレクトロニクスなどの企業が参加しています。

注記
STのBiCMOS技術は、2つの異なるプロセスの優位性を1チップに集積する技術です。バイポーラ・トランジスタは高周波アナログ・ブロックに不可欠な高速性と高ゲインを実現する一方、CMOSブロックは、シンプルかつ低消費電力の論理ゲートの構築に適しています。

RF、アナログ、デジタルの各ブロックを1チップに集積したSTのBiCMOS55 SiGeデバイスは、消費電力を最適化すると同時に、外付け部品点数を大幅に削減します。

(1)55nmバイポーラ・CMOS・SiGe
(2)71～76 / 81～86GHz帯（E-band）は、超大容量のポイント・ツー・ポイント通信用に、世界各国で認可されています。

STマイクロエレクトロニクスについて
STは、「センス & パワー、オートモーティブ製品」と「エンベデッド・プロセッシング　ソリューション」の多種多様なアプリケーションに半導体を提供する世界的な総合半導体メーカーです。エネルギー管理・省電力からデータ・セキュリティ、医療・ヘルスケアからスマート・コンスーマ機器まで、そして、家庭、自動車、オフィスおよび仕事や遊びの中など、人々の暮らしのあらゆるシーンにおいてSTの技術が活躍しています。STは、よりスマートな生活に向けた技術革新を通し、「life.augmented」の実現に取り組んでいます。2014年の売上は74.0億ドルでした。さらに詳しい情報はSTのウェブサイト（ http://www.st-japan.co.jp ）をご覧ください。

◆ お客様お問い合わせ先
〒108-6017 東京都港区港南2-15-1
品川インターシティA棟
STマイクロエレクトロニクス（株）
デジタル製品グループ
TEL : [phone]　FAX : [phone]