グラフェンEUVペリクルを開発・製造する株式会社エアメンブレンへリードインベスターとして出資

グローバル・ブレイン株式会社（以下、グローバル・ブレイン）が運営するグローバル・ブレイン9号ファンドは、グラフェンEUVペリクルを開発・製造する株式会社エアメンブレン（本社：茨城県つくば市 / 以下、エアメンブレン）へリードインベスターとして新規出資を実行したことをお知らせいたします。さらに、本ラウンドではTAKANAWA GATEWAY地球益投資事業有限責任組合（以下、高輪地球益ファンド）からの新規出資、および新韓－GBフューチャーフロー投資事業有限責任組合（以下、SHGB）からの追加出資も実行いたしました。

近年、AIや自動運転をはじめとするデジタル技術の急速な進展に伴い、先端半導体の需要が世界規模で拡大中です。半導体の微細化に不可欠な「EUV（極端紫外線）露光技術」では、さらなる高精度化を目指す「High-NA EUV露光技術」の開発が進んでいます。この露光プロセスにおいて、フォトマスクへの異物付着を防ぐ保護部品「EUVペリクル」は、先端半導体の歩留まりを大きく左右する重要な部品です。一方で、過酷なEUV露光環境において、光透過性・耐熱性・化学的安定性・機械強度というトレードオフ関係にある高い要件を同時に満たすことが技術的に難しく、これらを両立する製品の開発が世界的に強く期待されています。エアメンブレンは、国立研究開発法人産業技術総合研究所（以下、産総研）発の独自技術により、この世界的な課題の解決に取り組んでいます。

 

エアメンブレンは、産総研で培った独自の連続合成・自動転写技術により、グラフェンEUVペリクルの量産化を実現します。自動化された転写工程で微細な欠陥を排除し、高品質なグラフェン薄膜を損なわずにペリクル化することを可能にしています。今回調達した資金は、パイロット生産および量産ラインの立ち上げに向けた体制整備と、エンジニアおよびビジネス人材の採用加速に充てられます。

 

グローバル・ブレインは、独自のグラフェン連続合成・自動転写に関する技術的優位性、次世代EUV露光装置向けという世界的に拡大するマーケットポテンシャル、そして量産ラインの立ち上げに向けた具体的なロードマップと実行力のある経営チームを評価し、今回の出資を決定いたしました。今後、グローバル・ブレインはエアメンブレンの量産体制の構築および国内外の事業パートナーとの連携強化などを通じて、積極的に支援を行ってまいります。

 

※なお、グローバル・ブレインは2024年8月にSHGBを通じた出資実行を発表しています。
https://globalbrains.com/posts/invested-in-airmembrane

 

担当キャピタリスト：荒井 啓太 / 堀江 直樹

 

■エアメンブレンについて
会社名　株式会社エアメンブレン
所在地　茨城県つくば市千現2丁目1-6 つくば研究支援センター
代表者　長谷川 雅考
設立日　2017年7月
事業内容　グラフェンおよび二次元材料の合成・研究開発・製品化・販売、ならびに技術・用途開発のコンサルティング
URL　https://www.airmembrane.co.jp/

 

■高輪地球益ファンドについて
登記上の名称　TAKANAWA GATEWAY地球益投資事業有限責任組合
無限責任組合員　グローバル・ブレイン株式会社
運用総額　約100億円
運用期間　10年間
投資領域　国内外の環境、モビリティ（ロボット）、ヘルスケアの各領域

 

■SHGBについて
登記上の名称　新韓－GBフューチャーフロー投資事業有限責任組合
投資対象　日本スタートアップ（シードステージ）、日本への進出を計画する韓国スタートアップ
無限責任組合員: Shinhan Venture Investment Co.,Ltd.およびグローバル・ブレイン株式会社

 

■グローバル・ブレインについて
会社名　グローバル・ブレイン株式会社
所在地　東京都渋谷区渋谷二丁目17番1号
代表者　代表取締役社長 百合本 安彦
設立日　1998年1月
事業内容　ベンチャーキャピタル事業
URL　https://globalbrains.com