【ライブ配信セミナー】ALD(原子層堆積法)の基礎と応用(1日コース) ~ 薄膜形成の原理から、最新の応用展開の状況まで ~ 10月9日(金)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー(ライブ配信セミナー)となります。
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ(千代田区神田錦町: https://cmcre.com/ )では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「ALD(原子層堆積法)の基礎と応用(1日コース) ~ 薄膜形成の原理から、最新の応用展開の状況まで ~」と題するセミナーを、 講師に霜垣 幸浩 氏 東京大学大学院 工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授)をお迎えし、2020年10月9日(金)10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般:48,000円 + 税、 弊社メルマガ会員:43,000 円 + 税、 アカデミック価格は24,000 円 + 税となっております(資料付)。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください!
https://cmcre.com/archives/63369/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください!
https://cmcre.com/archives/63369/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
Atomic Layer Deposition(ALD、原子層堆積法)による薄膜合成は、ナノメートルレベルでの膜厚制御性、膜厚均一性などから、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。しかし、そのプロセスは、原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法であるChemical Vapor Deposition(CVD、気相薄膜形成法)と比較して、かなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。
このため、本講座では、第1部で各種の薄膜作成の基礎を概説、第2部でALDの基礎知識として、CVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、第3部ではALDプロセスの理想と 実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
1)セミナーテーマ及び開催日時
テーマ:ALD(原子層堆積法)の基礎と応用(1日コース) ~ 薄膜形成の原理から、最新の応用展開の状況まで ~
開催日時:2020年10月9日(金)10:30~16:30
参 加 費:48,000円 + 税 ※ 資料付
* メルマガ登録者は 43,000 円 + 税
* アカデミック価格は 24,000 円 + 税
講 師:霜垣 幸浩 氏 東京大学大学院 工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授
【セミナーで得られる知識】
・CVD/ALD法に関する速度論の基礎的知識
・前記に基づくCVD/ALD薄膜形成プロセスの開発
・解析能力・エッチングへの応用としてALEt
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2)申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/63369/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
3)セミナープログラムの紹介
第1部 薄膜作成の基礎
1 薄膜作製プロセス概論
1.1 薄膜の種類と用途:ULSI,MEMS,太陽電池,LED/LD
1.2 ウェットプロセスとドライプロセス,PVDとCVD
1.3 CVDプロセスの特徴
1.4 半導体デバイス,高集積化・微細化とALD技術
2 真空の基礎知識と薄膜形成の基礎
2.1 真空蒸着
2.2 真空度・真空の質,平均自由行程
2.3 各種PVD技術
3 CVD/ALDプロセス概論
3.1 CVDプロセスの原理と特徴,応用例
3.2 ALDプロセスの原理と歴史的展開
3.3 ALDプロセスの特徴と応用・発展
3.4 ALEt プロセスの原理と特徴
第2部 ALD/CVD 反応機構と速度論
1 ALDの基礎としてのCVDプロセス入門
1.1 CVDプロセスの素課程
1.2 CVDプロセスの速度論
1.2.1 製膜速度の温度依存性,表面反応律速と拡散律速
1.2.2 製膜速度の濃度依存性,1次反応とラングミュア・ ヒンシェルウッド型反応 1.3 CVDプロセスの均一性
2 表面・気相の反応機構解析入門
2.1 素反応機構と総括反応機構
2.2 気相反応の第一原理計算と精度
2.3 表面反応機構の量子化学的検討と実験的解析
第3部 ALDプロセスの基礎と展開
1 ALDプロセスの基礎
1.1 ALDプロセスの基礎理論と製膜特性
1.2 ALD プロセスの理想と現実
2 ALDプロセスの展開と応用
2.1 ALDプロセスの応用用途
2.2 ALDプロセスの解析手法と最適化
2.3 HW-ALDによる高品質Ni薄膜の合成
2.4 ALD-Co(W)/CVD-Cu(Mn)による高信頼性ULSI配線形成
まとめ <質疑応答>
※プログラムは若干変更になる可能性がございます。ご了承下さい。
4)講師紹介
【講師略歴】
1989年 東京大学 工学部 化学工学科 助手
1991年 東京大学 工学部 化学工学科 講師
1997年 東京大学 大学院 化学システム工学専攻 助教授
1998年 東京大学 大学院 金属工学専攻 助教授
2001年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 助教授 (改組)
2011年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 教授
1984年から現在に至るまで,CVD/ALD法による薄膜合成の研究開発に従事
2007年より,化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会代表として,CVD関連技術の普及・発展に寄与
2014年開催 ALD国際学会 実行委員長
5)セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
CVD/ALD法を基礎から学びたい研究者・技術者
エッチングへの応用としてのALEtに興味のある、研究者・技術者
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/63369/
6)ウェビナー(オンライン配信セミナー)のご案内
(1)5G&beyond 関連通信デバイスの分解・分析
開催日時:2020年9月28日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63491/
(2)ミリ波帯電波吸収体、遮へい材、透過材の考え方と設計例
開催日時:2020年9月28日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/59566/
(3)レーザ加工技術とその応用 ― 接合、切断、肉盛、表面処理など ―
開催日時:2020年9月29日(火)10:00~17:00
https://cmcre.com/archives/64088/
(4)モノコック3D印刷回路 - 基礎技術から、応用展開まで –
開催日時:2020年9月29日(火)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64192/
(5)スマートウインドウ/技術と材料の現状と今後の展望
開催日時:2020年9月30日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63971/
(6)シランカップリング剤:反応メカニズムと使い方
開催日時:2020年9月30日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/60770/
(7)ナノ粒子の配列・自己組織構造制御と評価法
開催日時:2020年10月1日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/62308/
(8)自動車用パワーエレクトロニクスの基礎と技術動向 < PCU、インバータ、DCDCコンバーター >
開催日時:2020年10月1日(木)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64781/
(9)次世代情報通信5G市場に要求される材料技術
開催日時:2020年10月1日(木)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64797/
(10)バッテリマネジメント、及びセルバランス技術の基礎と応用
開催日時:2020年10月2日(金)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64934/
(11)連続プロセスによる化学品・医薬品の生産 ~ 基礎から応用までをわかりやすく ~
開催日時:2020年10月2日(金)12:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63423/
(12)FCV・水素エネルギービジネスの最新動向
開催日時:2020年10月5日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/61224/
☆続々追加中!
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから!↓
https://cmcre.com/archives/category/seminar/webseminar_f/
7)関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上
このため、本講座では、第1部で各種の薄膜作成の基礎を概説、第2部でALDの基礎知識として、CVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、第3部ではALDプロセスの理想と 実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
1)セミナーテーマ及び開催日時
テーマ:ALD(原子層堆積法)の基礎と応用(1日コース) ~ 薄膜形成の原理から、最新の応用展開の状況まで ~
開催日時:2020年10月9日(金)10:30~16:30
参 加 費:48,000円 + 税 ※ 資料付
* メルマガ登録者は 43,000 円 + 税
* アカデミック価格は 24,000 円 + 税
講 師:霜垣 幸浩 氏 東京大学大学院 工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授
【セミナーで得られる知識】
・CVD/ALD法に関する速度論の基礎的知識
・前記に基づくCVD/ALD薄膜形成プロセスの開発
・解析能力・エッチングへの応用としてALEt
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2)申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/63369/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
3)セミナープログラムの紹介
第1部 薄膜作成の基礎
1 薄膜作製プロセス概論
1.1 薄膜の種類と用途:ULSI,MEMS,太陽電池,LED/LD
1.2 ウェットプロセスとドライプロセス,PVDとCVD
1.3 CVDプロセスの特徴
1.4 半導体デバイス,高集積化・微細化とALD技術
2 真空の基礎知識と薄膜形成の基礎
2.1 真空蒸着
2.2 真空度・真空の質,平均自由行程
2.3 各種PVD技術
3 CVD/ALDプロセス概論
3.1 CVDプロセスの原理と特徴,応用例
3.2 ALDプロセスの原理と歴史的展開
3.3 ALDプロセスの特徴と応用・発展
3.4 ALEt プロセスの原理と特徴
第2部 ALD/CVD 反応機構と速度論
1 ALDの基礎としてのCVDプロセス入門
1.1 CVDプロセスの素課程
1.2 CVDプロセスの速度論
1.2.1 製膜速度の温度依存性,表面反応律速と拡散律速
1.2.2 製膜速度の濃度依存性,1次反応とラングミュア・ ヒンシェルウッド型反応 1.3 CVDプロセスの均一性
2 表面・気相の反応機構解析入門
2.1 素反応機構と総括反応機構
2.2 気相反応の第一原理計算と精度
2.3 表面反応機構の量子化学的検討と実験的解析
第3部 ALDプロセスの基礎と展開
1 ALDプロセスの基礎
1.1 ALDプロセスの基礎理論と製膜特性
1.2 ALD プロセスの理想と現実
2 ALDプロセスの展開と応用
2.1 ALDプロセスの応用用途
2.2 ALDプロセスの解析手法と最適化
2.3 HW-ALDによる高品質Ni薄膜の合成
2.4 ALD-Co(W)/CVD-Cu(Mn)による高信頼性ULSI配線形成
まとめ <質疑応答>
※プログラムは若干変更になる可能性がございます。ご了承下さい。
4)講師紹介
【講師略歴】
1989年 東京大学 工学部 化学工学科 助手
1991年 東京大学 工学部 化学工学科 講師
1997年 東京大学 大学院 化学システム工学専攻 助教授
1998年 東京大学 大学院 金属工学専攻 助教授
2001年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 助教授 (改組)
2011年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 教授
1984年から現在に至るまで,CVD/ALD法による薄膜合成の研究開発に従事
2007年より,化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会代表として,CVD関連技術の普及・発展に寄与
2014年開催 ALD国際学会 実行委員長
5)セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
CVD/ALD法を基礎から学びたい研究者・技術者
エッチングへの応用としてのALEtに興味のある、研究者・技術者
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/63369/
6)ウェビナー(オンライン配信セミナー)のご案内
(1)5G&beyond 関連通信デバイスの分解・分析
開催日時:2020年9月28日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63491/
(2)ミリ波帯電波吸収体、遮へい材、透過材の考え方と設計例
開催日時:2020年9月28日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/59566/
(3)レーザ加工技術とその応用 ― 接合、切断、肉盛、表面処理など ―
開催日時:2020年9月29日(火)10:00~17:00
https://cmcre.com/archives/64088/
(4)モノコック3D印刷回路 - 基礎技術から、応用展開まで –
開催日時:2020年9月29日(火)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64192/
(5)スマートウインドウ/技術と材料の現状と今後の展望
開催日時:2020年9月30日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63971/
(6)シランカップリング剤:反応メカニズムと使い方
開催日時:2020年9月30日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/60770/
(7)ナノ粒子の配列・自己組織構造制御と評価法
開催日時:2020年10月1日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/62308/
(8)自動車用パワーエレクトロニクスの基礎と技術動向 < PCU、インバータ、DCDCコンバーター >
開催日時:2020年10月1日(木)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64781/
(9)次世代情報通信5G市場に要求される材料技術
開催日時:2020年10月1日(木)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64797/
(10)バッテリマネジメント、及びセルバランス技術の基礎と応用
開催日時:2020年10月2日(金)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/64934/
(11)連続プロセスによる化学品・医薬品の生産 ~ 基礎から応用までをわかりやすく ~
開催日時:2020年10月2日(金)12:30~16:30
https://cmcre.com/archives/63423/
(12)FCV・水素エネルギービジネスの最新動向
開催日時:2020年10月5日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/61224/
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7)関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上
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