【ライブ配信セミナー】半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点　4月27日（木）開催　主催：(株)シーエムシー・リサーチ

本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点」と題するセミナーを、 講師に羽深　等 氏　　（横浜国立大学 名誉教授 / 応装置工学ラボ　代表）をお迎えし、2023年4月27日（木）13：30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：44,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：39,600円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
　https://cmcre.com/archives/109112/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。

半導体洗浄の基礎現象から困った時の対策、微細形状の課題まで説明します。洗浄とは何のために何をどうすることか？ 「清浄・きれい」の意味は何か？ を改めて考えると、意外なほど工程と現象が見えて来ます。ここでは、簡単な流れの例を動画で見て基礎現象の感覚をつかみ、湿式洗浄の代表的装置（枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機）の流れを可視化観察動画と計算例で解説します。超音波の効果についても動画を見るとイメージが湧いて来ます。まとめでは、足元をすくわれた時の視点と対策を簡潔に説明します。微細形状の洗浄についても課題を考えてみます。化学工学の基礎と応用の視点から説明しますので、半導体以外の洗浄をしている技術者や、洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

1）セミナーテーマ及び開催日時 
テーマ：半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点
開催日時：2023年4月27日（木）13：30～16：30
参 加 費：44,000円（税込） ※ 資料付
　＊ メルマガ登録者は 39,600円（税込）
　＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：羽深 等 氏  横浜国立大学 名誉教授 / 応装置工学ラボ 代表


【セミナーで得られる知識】
(1) 半導体洗浄の本来の意味と意義
(2) 生産性と品質を向上させるために流れと薬液を使い分ける視点
(3) 洗浄において微細パターンが意味すること
(4) 苦労する原因の見抜き方


※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。


2）申し込み方法 
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
  https://cmcre.com/archives/109112/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。

3）セミナープログラムの紹介 
1） 洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

2） 一般の洗浄（洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学）

3） 半導体の洗浄に特有のこと

4） 先端技術情報
（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

5） 半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
　5-1） 表面の現象とプロセス
　　（付着・脱離・引き剥がす・こする・乾かす）
　5-2） 流れ、熱、拡散、反応
　5-3） 装置内流れの種類(完全混合、押出流れ、境界層）
　5-4） 流れの可視化観察（簡単な例を動画で紹介）

6） 洗浄機内の流れと反応
　6-1） 枚葉式洗浄機
　　6-1-1） 水の流れ（観察動画と計算例）
　　6-1-2） 化学反応の例
　6-2） バッチ式洗浄機
　　6-2-1） 水の流れ(観察動画と計算例）
　　6-2-2） 水流の最適化（変えてみた例）
　6-3） バッチ式洗浄機における超音波の働き（観察）

7） まとめ：困った時の視点と対策
　7-1） 洗えない時、洗いにくい時
　7-2） 微細構造の特徴と洗浄の視点


4）講師紹介
【講師経歴】
1979年3月 新潟大学 理学部 化学科 理学士
1981年3月 京都大学大学院 理学研究科 化学専攻 理学修士
1996年9月 広島大学大学院 工学研究科 博士（工学）
1981年4月～2000年3月 信越化学工業（信越半導体）
2000年4月～2002年3月 横浜国立大学 工学部 物質工学科 助教授
2002年4月～2022年3月 横浜国立大学大学院 工学研究院 教授
2022年4月 横浜国立大学大学院 工学研究院 名誉教授
2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表

【研究内容】
(1) 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
(2) 半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチングのプロセス開発と解析
(3) 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

【所属学会】
応用物理学会、化学工学会、エレクトロニクス実装学会、日本結晶成長学会、空気清浄協会、米国電気化学会、米国化学会


5）セミナー対象者や特典について 
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。 

★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。


【セミナー対象者】
半導体製造に関わる企業の生産現場と開発現場で洗浄を主担当とする技術者、および、洗浄を手段として使っている技術者。
先端材料の表面を取り扱っている技術者及び研究者

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/109112/


6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内 
○IT/車載やAR/VR/MR向けなどの新しいディスプレイの材料・技術の動向
　開催日時：2023年4月7日（金）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/109051/

○5G/6G時代に対応するFPC最新市場・技術動向
　開催日時：2023年4月7日（金）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108534/

○廃プラスチック高度リサイクルのための光学識別技術
　開催日時：2023年4月10日（月）13：30～15：00
　https://cmcre.com/archives/109465/

○EVにおける車載機器の熱対策
　開催日時：2023年4月11日（火）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108834/

○発酵技術の基礎と実践
　開催日時：2023年4月11日（火）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/109290/

○5G、及びBeyond 5Gで求められるノイズ対策・電磁波シールド・吸収材料の設計・技術
　開催日時：2023年4月12日（水）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108705/

○エポキシ樹脂全般の知識とリサイクル技術
　開催日時：2023年4月13日（木）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/106408/

○同方向噛み合い型二軸押出機のスクリューデザイン超入門講座
　開催日時：2023年4月13日（木）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/109743/

○微生物を活用した液体燃料・汎用化学品・機能性物質の製造技術
　開催日時：2023年4月14日（金）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108996/

○騒音・振動の低減技術と材料の適用法
　開催日時：2023年4月14日（金）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108886/

○スラリー評価の基礎（1日コース）
  〜 液中の粒子分散・凝集状態をどのように制御するのか 〜
　開催日時：2023年4月14日（金）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/109198/

○二酸化炭素を利用した樹脂接合法の基本原理と産業利用
　開催日時：2023年4月17日（月）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/108940/



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7）関連書籍のご案内
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                             　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　以上