【ライブ配信セミナー】実機動画で学ぶ半導体洗浄の要点とトラブル対策 8月25日(金)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ

本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー(ライブ配信セミナー)となります。

CMCリサーチ

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ(千代田区神田錦町: https://cmcre.com/ )では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「実機動画で学ぶ半導体洗浄の要点とトラブル対策」と題するセミナーを、 講師に羽深 等 氏  (横浜国立大学 名誉教授 / 反応装置工学ラボ 代表)をお迎えし、2023年8月25日(金)13:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般:44,000円(税込)、 弊社メルマガ会員:39,600円(税込)、 アカデミック価格は26,400円(税込)となっております(資料付)。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください!
 https://cmcre.com/archives/112473/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。

半導体表面の汚れを原子レベルで洗うには、(1)薬液を選び、(2)表面に付きまとう水の層(境界層)の下(奥)で反応 させ、(3)取れた汚れを表面に戻さない工夫が大切であり、(4)工程全体を水流が支えています。そこで、薬液について 選び方を説明した上で、狭い溝と深い孔を洗うための薬液量が意外なほど多いことを示します。水流については、湿式洗浄の 実機(枚葉式装置とバッチ式装置)の実例と改善例を可視化観察動画と数値計算例で具体的に解説します。超音波によって洗 浄槽内に生まれる水と気泡の動きも、動画で紹介します。以上をまとめた上で、トラブル対策の視点について説明します。

1)セミナーテーマ及び開催日時 
テーマ:実機動画で学ぶ半導体洗浄の要点とトラブル対策
開催日時:2023年8月25日(金)13:30~16:30
参 加 費:44,000円(税込) ※ 資料付
 * メルマガ登録者は 39,600円(税込)
 * アカデミック価格は 26,400円(税込)
講 師:羽深 等 氏  横浜国立大学 名誉教授 / 反応装置工学ラボ 代表


【セミナーで得られる知識】
(1) 薬液の機能と使い分け
(2) 水流を理解し、改善する視点
(3) 微細パターンが洗浄において具体的に意味すること
(4) トラブルの分類と対策の選択法


※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。


2)申し込み方法 
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
  https://cmcre.com/archives/112473/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。

 


3)セミナープログラムの紹介 
1) 洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?

2) 一般の洗浄(洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学)

3) 半導体の洗浄に特有のこと

4) 先端技術情報源(国際学会・国内学会)

5) 半導体洗浄の基礎現象(薬液と流れの効果)
5-1) 表面の現象とプロセス
  (付着・脱離・引き剥がす・こする・乾かす)
5-2) 流れ、熱、拡散、反応
5-3) 装置内流れの種類(完全混合、押出流れ、境界層)
5-4) 流れの可視化観察(身近な例を動画で紹介)

6) 洗浄機内の流れと反応
6-1) 枚葉式洗浄機(200mmΦウエハ用実機)
 6-1-1) 水の流れ(観察動画と計算例)
 6-1-2) 化学反応の例
6-2) バッチ式洗浄機(300mmΦウエハ用実機)
 6-2-1) 水の流れ(観察動画と計算例)
 6-2-2) 水流の最適化(変えてみた例)
6-3) 超音波の働き
  (300mmΦウエハ用バッチ式洗浄機の観察動画)

7) まとめ:困った時の視点と対策
7-1) 洗えない時、洗いにくい時の対策選択
7-2) 微細空間(溝・孔)が生み出す諸課題と洗浄の視点


4)講師紹介
【講師経歴】
1979年3月 新潟大学 理学部 化学科 理学士
1981年3月 京都大学大学院 理学研究科 化学専攻 理学修士
1996年9月 広島大学大学院 工学研究科 博士(工学)
1981年4月~2000年3月 信越化学工業(信越半導体)、
2000年4月~2002年3月 横浜国立大学 工学部物質工学科 助教授
2002年4月~2022年3月 横浜国立大学大学院 工学研究院 教授
2022年4月 横浜国立大学大学院 工学研究院 名誉教授
2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表

【研究内容】
(1) 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置(枚葉式・バッチ式)の解析・設計
(2) 半導体シリコンと炭化珪素の 薄膜成長(CVD, PECVD)・エッチングのプロセス開発と解析
(3) 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

【所属学会】
応用物理学会、化学工学会、エレクトロニクス実装学会、日本結晶成長学会、空気清浄協会、米国電気化学会、 米国化学会


5)セミナー対象者や特典について 
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。 

★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。


【セミナー対象者】
半導体製造に関わる企業の生産現場と開発現場で洗浄を主担当とする技術者、および、洗浄を手段として使っている技術者
先端材料の表面を取り扱っている技術者及び研究者

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/112473/


6)ウェビナー(オンライン配信セミナー)のご案内 
〇リチウムイオン電池のリユースに向けた劣化診断技術
 開催日時:2023年8月1日(火)13:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/114354/

〇微生物機能を活用する都市鉱山からのレアメタル・貴金属リサイクル技術とその実用
 開催日時:2023年8月7日(月)13:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/114071/

〇日本・欧州のプラスチック容器包装リサイクル 現状および最新動向
 開催日時:2023年8月8日(火)13:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/113394/

〇微細藻類・海洋微生物の産業利用と最新動向
 開催日時:2023年8月21日(月)10:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/114177/

〇グリーン水素製造技術の基礎と応用、開発動向
 開催日時:2023年8月21日(月)13:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/113078/

〇リン酸カルシウム系セラミックバイオマテリアル  ~ 基礎から最新研究まで ~
 開催日時:2023年8月22日(火)13:30~15:00
 https://cmcre.com/archives/113526/

〇導電性コンポジットの開発に向けたフィラーの種類、特性と配合・分散技術
 開催日時:2023年8月22日(火)10:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/104000/

〇汎用リチウムイオン電池の性能・劣化・寿命評価
 ― 各電極・電池の詳細な電気化学的解析を含む ―
 開催日時:2023年8月23日(水)10:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/111916/

〇工業触媒の基礎とスケールアップへの応用
 ~ 触媒劣化対策・触媒プロセス開発と企業化例・CO2削減技術 ~
 開催日時:2023年8月24日(木)10:30~16:30
 https://cmcre.com/archives/110091/



☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから!↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/


7)関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/

                                                                    以上

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会社概要

URL
http://cmcre.com/
業種
サービス業
本社所在地
東京都千代田区神田錦町2-7 東和錦町ビル3階
電話番号
03-3293-7053
代表者名
初田 竜也
上場
未上場
資本金
-
設立
1984年04月