IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！ 2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版
9月30日(金) AndTech WEBオンライン「シランカップリング処理の最適化とトラブル対策 ～付着、密着、濡れ、気泡、液滴、コーティング、微粒子分散の制御法～」Zoomセミナー講座を開講予定 2022年8月30日 13時47分 AndTech
7月22日(金) AndTech WEBオンライン「表面疎水化処理の最適化とトラブル対策 ～付着、密着、濡れ、気泡、液滴、コーティング、微粒子分散の制御法～」Zoomセミナー講座を開講予定 2022年6月16日 16時17分 AndTech
【ライブ配信セミナー】シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法 2021年10月20日（水）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ 2021年9月29日 09時30分 CMCリサーチ
IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！ 2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版
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【ライブ配信セミナー】シランカップリング処理による付着・濡れ・コーティングの制御法 2021年10月20日（水）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ 2021年9月29日 09時30分 CMCリサーチ
