「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月9,10日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展します。
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
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開催期間 |
4月9日(木)10:00～17:00、10日(金)10:00～16:00 |
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会場 |
パシフィコ横浜Annex Hall Booth No.31 |
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パネル展示 |
１．マルチ電子ビームマスク描画装置：MBM™-4000 |
関連サイト
Photomask Japan 2026 | Technical Exhibition (Japanese)
以上
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