国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に参加

ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2026年4月8日から10日までパシフィコ横浜アネックスホールで開催された「Photomask Japan 2026」に参加しました。

 

本学会は、 ホトマスクジャパンとSPIE（国際光工学会：The International Society for Optical Engineering）が毎年開催する国際シンポジウムで、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術について、幅広い報告が行われました。

 

NFTは、特別プレイベント企画「チュートリアル」の「描画」セクションの講演を担当しました。また、マルチ電子ビームマスク描画装置MBMTM-4000に関する最新の研究成果についてOralで1件、Posterで１件、計2件の発表を行っています。

 

< Photomask Japan 2026でのNFTの口頭発表／ポスター発表>

 

Tutorial: Drawing

Presentation Title: A History of E-Beam Mask Writers and Their Role in Semiconductor Manufacturing

Speaker: Rieko Nishimura

 

Oral Presentation

Writing and Patterning 14-3

Presentation Title: Multi-beam Mask Writer MBMTM-4000: Enhancements and Latest Performance

Presenter: Yusuke Saito

 

Poster Presentation

10-40

Presentation Title: Resist Heating Effect Correction in Multi-beam Mask Writer MBMTM-4000

Presenter: Haruyuki Nomura

 

関連リンク：

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以上