フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology +Extreme Ultraviolet Lithography」に参加

ニューフレアテクノロジー（NFT）は、2026年9月8日から11日まで米国カリフォルニア州モントレー市で開催された「SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography」に参加しました。

本会議は、光学やフォトニクスの分野における国際学会であるSPIE (The International Society for Optical Engineering、国際光工学会)が毎年開催しているもので、フォトマスクとパターニング、計測器、測定、材料、検査、修理、マスクビジネス、High-NA EUVリソグラフィーなどに関する国際的な学術会議です。

NFTは、本会議に毎年参加しており、今年もマルチ電子ビームマスク描画装置に関する最新の開発状況について1件の口頭発表、1件のポスター発表を行いました。

＜SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet LithographyでのNFTの口頭発表／ポスター発表＞

Session

Paper 14273-5

MBM-4000: latest results and additional benefits enabled by edge dose enhancement

Author(s): Kenichi Yasui, Jumpei Yasuda, Hiroshi Matsumoto, Daisuke Hara, Shinichi Sasaki, Hayato Kimura, Yoshinori Kojima, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Presenter: Kenichi Yasui, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Poster Session Paper 14273-50

Electron multi-beam mask writer evaluation using sine wave patterns: consolidated findings and practical insights

Author(s): Makoto Kawano, Shinichi Sasaki, Hikari Ogawa, Aki Mukai, Tianyue Zhou, Takuma Abe, Yoshiyuki Negishi, Hideki Matsui, Yoshinori Kojima, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Presenter: Makoto Kawano, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

関連リンク：

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography

以上