フッ素フリーホスホニウム系帯電防止剤を開発

日本化学工業株式会社（本社：東京都江東区、代表取締役社長：棚橋 洋太、以下 当社）は、PFAS規制に差し当たりフッ素フリーのホスホニウム塩系帯電防止剤を開発いたしました

◆技術開発の背景

現在、当社は中期経営計画方針でもあります「成長戦略の推進と新たな価値の創造」に向け、事業拡大と体質強化、グローバル化の推進、新たな価値の創造に取り組んでおります。

世界的なPFAS規制の拡大を受け、各国で対応が求められている中、当社は30年以上にわたるホスフィン誘導体の合成技術を駆使し、フッ素フリー帯電防止剤の開発に成功いたしました。

今回開発した製品は、様々な樹脂に相溶するようイオン液体タイプとなりますが、他にも多数のグレードの開発にも着手しており、顧客ニーズに答えられるよう開発を進めております。

PFAS規制が拡大する中、多くの関係者様へご評価いただくべく、福島第二工場(福島県田村郡)での実機製造に早期着手するべく、開発体制を加速させております。

引き続き、本製品の開発を通じてPFAS規制を共に乗り越えていき、持続可能な社会の実現のため、邁進してまいります。

◆ホスホニウム塩系帯電防止剤を下記の展示会に出展します

当社の材料・技術を通じて情報交流の機会となりますよう、皆様のご来場をスタッフ一同心よりお待ちしております。

出展先：第14回高機能プラスチック展(プラスチックジャパン／高機能素材Week内)

会期：2025年11月12日（水）～11月14日（金）

会場：幕張メッセ　2ホール（小間番号：13-46）　

URL：https://www.material-expo.jp/tokyo/ja-jp/visit/pla.html

出展先：ケミカルマテリアル Japan2025

会期：2025年11月27日（木）～11月28日（金）

会場：東京ビッグサイト 南展示棟 ホール1・2　

URL：https://www.chemmate.jp/

◆お問い合わせ先

日本化学工業株式会社　IR広報　TEL：[phone]