フラボノイドとアスコルビン酸の相乗効果で表皮細胞の酸化を防ぐ力を強化

ヒドロキシラジカル消去とNRF2活性化を併せ持つ複合素材を発見

ポーラ

2025年12月3日 11時00分

株式会社ポーラ（本社：東京都品川区、代表取締役社長：小林琢磨）のPOLAイノベーションセンターは、三生医薬株式会社（本社：静岡県富士市、代表取締役社長：今村朗、以下三生医薬）と共同で、フラボノイドとアスコルビン酸を含むエキスの併用が、ヒドロキシラジカル消去とNRF2活性化に対し効果的であることを明らかにしました。この抗酸化メカニズム研究の成果を、2025年12月3日～5日に開催される第48回日本分子生物学会年会において、三生医薬と共同で発表します。

酸化へのアプローチは「即効性」と「持続性」の両立が重要

日常では紫外線や環境ストレスによって肌は酸化ストレスを受けています。このストレスから肌を守るには、2つの仕組みが重要です。

1つは、発生したばかりの活性酸素をすぐに取り除く「即効性」の高い直接的な抗酸化作用で、アスコルビン酸が代表的です。もう1つは、表皮細胞のスイッチNRF2（補足資料1）に働き、抗酸化酵素を増やすことで細胞そのものの防御力を高める、「持続性」の高い細胞内の抗酸化作用です。

どちらか一方だけでは不十分であり、両方をバランスよく活用することで、より効果的に酸化ストレスから守ることが重要であるとポーラは考えました(図1)。

「即効性」の高いフラボノイド類を探索

ヒドロキシラジカルは、体の中で生じる活性酸素の中でも特に強い酸化力を持ち、細胞に大きなストレスを与えることで知られています。このヒドロキシラジカルを取り除く働きは、体の外から摂取する抗酸化成分に大きく依存しています。中でも、植物に含まれる

フラボノイド類には強い抗酸化作用があることがわかっています。

そこで、数多くあるフラボノイドの中から、ヒドロキシラジカルを効果的に除去できるものを見つけるために、発生させたヒドロキシラジカルを各フラボノイドと混合し、ラジカルがどれだけ減少するか測定する試験を実施し、比較研究を行いました(表1)。

「即効性」と「持続性」を併せ持つ、複合エキスを開発

比較研究の結果（表1）をもとに、ヒドロキシラジカル除去作用の高いフラボノイドを多く含む植物エキス（補足資料2）を選定し、その植物エキスとアスコルビン酸を組み合わせた複合エキスが、細胞を

過酸化水素（酸化ストレス）負荷から守るか調べました。複合エキスを表皮細胞に加えて酸化ストレスを与えたところ、他の細胞よりもROSのシグナルが低く、酸化ストレスが起きにくいことが分かりました（図2）。

このことから、複合エキスには、細胞の抗酸化力を高め、細胞を酸化ストレスから守る働きがあると示されました。

さらに、メカニズム解析から複合エキスによって酸化ストレス防御のスイッチ「NRF2」が核内移行、活性化され、それにより働く抗酸化遺伝子（HMOX1）も増加し、細胞が自ら酸化ストレスに対抗できる状態であることが示されました(補足資料3)。

今回の結果は、即効性の高い直接的なラジカル消去と持続性の高い細胞内抗酸化応答の両立を実現する新たな抗酸化戦略であり、より効果的な皮フ保護素材の開発につながる知見です。

【補足資料１】NRF2とは

NRF2(Nuclear factor-erythroid 2-related factor 2)は、細胞が酸化ストレスから自らを守るために働く“防御スイッチ”のような存在です。転写因子と呼ばれるタンパク質で、普段は細胞質の中で抑えられていますが、抗酸化成分をきっかけに活性化すると核内に移動し、抗酸化酵素や解毒酵素をつくる遺伝子をオンにします(図3)。