09月09日(月)　AndTech　WEBオンライン「半導体レジスト・リソグラフィ入門講座」Zoomセミナー講座を開講予定

鴨志田技術事務所　 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー　 鴨志田　洋一　氏 にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる半導体レジスト・リソグラフィでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「半導体レジスト・リソグラフィ入門講座 」講座を開講いたします。

黎明期のフォトレジスト開発からフォトリソグラフィの確立までレジスト材料の開発を中心に、創出された多くのイノベーションについて、エキシマレーザを光源とした化学増幅型レジストシステムの開発とエキシマレーザリソグラフィの展開を詳しく解説！ 

本講座は、2024年09月09日開講を予定いたします。 詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ef5f7fe-b65e-6422-b0fb-064fb9a95405

Live配信・WEBセミナー講習会　概要

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テーマ：半導体レジスト・リソグラフィ入門講座

開催日時：2024年09月09日(月) 10:30-16:30 

参 加 費：49,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定

U　R　L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ef5f7fe-b65e-6422-b0fb-064fb9a95405

WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

セミナー講習会内容構成

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　ープログラム・講師ー

鴨志田技術事務所　 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー　 鴨志田　洋一　氏

本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題

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レジスト材料の開発を中心に、創出された多くのイノベーション

エキシマレーザを光源とした化学増幅型レジストシステムの開発

エキシマレーザリソグラフィの展開

EUVリソグラフィの現状

課題解決に向けた今後の取り組み

本セミナーの受講形式

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　WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。

　詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

株式会社AndTechについて

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　化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、

　幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

　弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」

　「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。

　クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。

　　https://andtech.co.jp/

株式会社AndTech　技術講習会一覧

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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。

https://andtech.co.jp/seminars/search

　

株式会社AndTech　書籍一覧

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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。

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株式会社AndTech　コンサルティングサービス

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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。

https://andtech.co.jp/business-consulting

　

本件に関するお問い合わせ

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株式会社AndTech　広報PR担当 青木

メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）

下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）

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【講演主旨】

【第1部】黎明期のフォトレジストとフォトリソグラフィの確立

　今日の情報化された社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。半導体産業は経済ひいては国の安全保障を担うという位置付けで国家戦略に組み込まれつつある。半導体産業の根幹技術がリソグラフィであり、その中の重要な材料として半導体レジストがある。

　MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化の方向で一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低コスト化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIのスト高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。

　第１部では黎明期のフォトレジスト開発からフォトリソグラフィの確立までレジスト材料の開発を中心に、創出された多くのイノベーションについて解説する。

【第2部】化学増幅型レジストの展開とエキシマレーザリソグラフィのイノベーション

　LSIの微細化、高集積化により半導体デバイスの高速化が進み、量産による低コスト化が実現し、これらをベースにした情報処理進技術が社会のインフラを支える基盤技術として社会のニーズに応えられるようになってきた。半導体レジストも化学増幅システムという画期的なイノベーションを創出し、さらに進化を遂げることができた。

　本講ではエキシマレーザを光源とした化学増幅型レジストシステムの開発とエキシマレーザリソグラフィの展開を詳しく解説する。

【第3部】EUVリソグラフィの現状と今後の展開および国家安全保障を担う半導体産業戦略

　化学増幅型レジストを用いたエキシマレーザリソグラフィで、先端半導体デバイスが量産され、社会のインフラを支えているわけであるが、さらに微細化、高集積化を進めるためにEUVリソグラフィが実用化され、導入が進んでいる。

　本講ではEUVリソグラフィの現状を解説し、課題解決に向けた今後の取り組みについて議論する。

　さらに半導体技術は目覚ましい社会の発展をもたらしているものの、これらを中心とした科学技術が社会に対して負の側面を見せつつある。地球温暖化、南北格差拡大等の顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。

【プログラム】

【第1部】黎明期のフォトレジストとフォトリソグラフィの確立

１.技術パラダイムシフトと半導体集積回路

　1-1　科学技術の発展

　1-2　技術パラダイムシフト

　1-3　マイクロエレクトロニクス(ME)と社会

　1-4　ＭＥの黎明期とフォトレジスト

２.フォトレジストの本流

　2-1　ゴム系ネガ型フォトレジスト

　(1)　リソグラフィプロセスの確立

　(2)　基本的構造及び製造法の進化

　2-2　ノボラック系ポジ型レジスト

　(1)　基本的組成

　(2)　マトリックス樹脂、感光性化合物のデザイン

　(3)　レジストの透明性と解像度

　(4)　i-線レジスト

　(5)　リソグラフィプロセスでの化学と工程管理

　(6)　レジストの溶剤と環境への影響

　(7)　高性能化への工夫と新たなイノベーション

３.まとめ

【第2部】化学増幅型レジストの展開とエキシマレーザリソグラフィのイノベーション

１.フォトレジストの裏街道

　1-1　Ｘ線レジスト

　1-2　Top Surface Imaging：表層をイメージングレイヤーとするDESIREプロセス

　1-3　Deep UVリソグラフィ

　(1)　プロトタイプレジスト

　(2)　化学増幅型レジスト

　(3)　光酸発生剤

２.エキシマレーザリソグラフィ

　2-1　KrFレジスト

　(1)　エキシマレーザリソグラフィ実現への課題

　(2)　光源・光学系の課題

　(3)　化学増幅型レジストの課題

　(4)　材料からの改良

　(5)　プロセス面からの改良　CMP/ARC

　(6)　実用化されたレジスト材料

　2-2　ArFレジスト

　(1)　ArFレジスト実現への課題

　(2)　課題克服へのイノベーション

　2-3　液浸リソグラフィ

　(1)　液浸リソグラフィプロセス

　(2)　レジスト材料への展開

３.まとめ

【第3部】EUVリソグラフィの現状と今後の展開および国家安全保障を担う半導体産業戦略

１.EUVリソグラフィ

　1-1　光源・露光機の開発

　1-2　レジスト開発

　　　　　開発現状と課題／LERの要因と対応

　1-3　無機レジスト

　　　　　感度・解像度／保存安定性

　1-4　EUVLの課題

　　　　　光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置

２.今後の展望

　2-1　高解像度化と現像プロセス

　　　　　現像過程での膨潤と解像度

　2-2　今後のパターン形成プロセス

　2-3　ナノインプリント技術の実用化　

３.科学技術と社会(半導体と人間)

　3-1　実装材料（ポリイミド）

　3-2　フラットパネルディスプレイ材料

　3-3　ブレインマシンインターフェイス(BMI)

　3-4　科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)

４.国の安全保障の根幹を担う半導体産業　

　4-1　半導体産業の重要性

　4-2　日本および世界の半導体産業の現状

　4-3　経産省の戦略

　4-4　再生のための論点　

５.効率的にイノベーションを創出するために

　5-1　知的財産戦略

　5-2　MOT

６.まとめ

【質疑応答】

＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。

＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以　上