6月24日(火) AndTech「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
鴨志田技術事務所 鴨志田 洋一 氏 、メルクエレクトロニクス株式会社 仁川 裕 氏 にご講演をいただきます
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、レジスト材料について、第一人者の講師からなる「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」講座を開講いたします。
本セミナーでは、これまでのレジスト材料における微細化・高解像度化技術・材料開発の変遷を時系列的にまとめ、今後の効率的な技術開発の応用への指針を示し、あわせてPFASフリーの環境対応、PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイント、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察します。
本講座は、2025年6月24日開講を予定しております。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1f016970-591b-6f8c-8baf-064fb9a95405
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Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～
開催日時：2025年06月24日(火) 13:00-17:00
参 加 費：49,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1f016970-591b-6f8c-8baf-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
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セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
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第1部 レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望
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講師 鴨志田技術事務所 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、
フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー 鴨志田 洋一 氏
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第2部 脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向
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講師 メルクエレクトロニクス株式会社 研究開発部 仁川 裕 氏
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本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
・レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程
・技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、次世代リソグラフィ技術、PFASフリー等の効率的な技術開発への応用
・事業課題を設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案
・社会における半導体の位置づけ、日本の半導体産業の現状と課題を理解し、今後の展望
・PFASの知識と特性
・PFAS規制と今後の動向
・PFAS代替品を用いた材料開発、プロセス立ち上げのポイント
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本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
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株式会社AndTechについて
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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株式会社AndTech 技術講習会一覧
一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search
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株式会社AndTech 書籍一覧
選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting
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本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
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下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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第1部 レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望
【講演主旨】
今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。その先端技術である人工知能(AI)は医療分野、自動運転技術への展開から社会への浸透をはじめており、人間に代わるから超えるところまで議論されている。
MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。
1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
2) 投影露光方式の導入
3) 化学増幅型レジスト／エキシマレーザ光源の採用
4) EUV光源の採用など
それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの微細化・高解像度化技術・材料開発の変遷を時系列的にまとめ、今後の効率的な技術開発への応用への指針とする。あわせて、PFASフリーの環境対応、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。
【プログラム】
１．技術パラダイムシフトと半導体集積回路
1.1 科学技術の発展
1.2 技術パラダイムシフト
1.3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会～AI技術の展開～
1.4 ＭＥの黎明期とフォトレジスト
２．フォトレジストの本流２．フォトレジストの本流
2.1 ゴム系ネガ型フォトレジスト
(1) リソグラフィプロセスの確立
(2) 基本的構造及び製造法
2.2 ノボラック系ポジ型レジスト
(1) 基本的組成
(2) マトリックス樹脂製法、感光性化合物
(3) レジストの透明性と解像度
(4) i-線レジスト
(5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
(6) レジストの溶剤と環境への影響
(7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション
３．フォトレジストの裏街道
3.1 Ｘ線レジスト
3.2 Top Surface Imaging：DESIRE
3.3 Deep UVリソグラフィ
(1) 黎明期のレジスト
(2) 化学増幅型レジスト
(3) 光酸発生剤
４．エキシマレーザリソグラフィ
4.1 KrFレジスト
(1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
(2) 光源・光学系の課題
(3) 化学増幅型レジストの課題
(4) 材料からの改良
(5) プロセス面からの改良
(6) 実用化されたレジスト材料
4.2 ArFレジスト
(1) ArFレジスト実現への課題
4.3 液浸リソグラフィ
５．EUVリソグラフィ
5.1 光源・露光機の開発
5.2 レジスト開発
開発現状と課題／LERの要因と対応
5.3 無機レジスト
感度・解像度／保存安定性
5.4 EUVLの課題
光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置
６．今後の展望
6.1 高解像度化と現像プロセス
現像過程での膨潤と解像度
6.2 今後のパターン形成プロセス
6.3 ナノインプリント技術の実用化
７．科学技術と社会(半導体と人間)
7.1 AI
7.2 ブレインマシンインターフェイス(BMI)
7.3 科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)
８．国の安全保障の根幹を担う半導体産業
8.1 半導体産業の重要性
8.2 日本および世界の半導体産業の現状
8.3 経産省の戦略
8.4 再生のための論点
９．効率的にイノベーションを創出するために
知的財産戦略とMOT
１０．まとめ
質疑応答
【講演者の最大のPRポイント】
講演者はフォトリソグラフィの確立期からレジスト材料の研究開発に携わり、先端レジストの研究開発からマーケティング、事業化・産業化まで担当してきた。同時に現在に至るまで学会活動(フォトポリマー懇話会等)等を通して、学会・業界の情報に精通しており、レジスト材料を含め、リソグラフィ技術全般および半導体産業の現状と将来について解説できる。
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第2部 脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向
【講演主旨】
昨今、ニュースなどで大きく話題に上がっているPFASとは何か？ なぜこれまで半導体用途で使用されてきたのか？ 有機フッ素化合物を使うアドバンテージは何なのか？ 今後どのような規制がかかるのか？ 今後どのように置き換えが進んでいくのか？
科学者として正しい知識を持ち、今後の対応策を考えることは非常に大切なことです。
規制がかかるのを待ってからではなく、今後どのように代替品を見つけ置き換えていくのかを
プロアクティブに考えるきっかけになることを確信しています。
【プログラム】
１．What’s PFAS?
２．World trend of PFAS control.
３．Why we use PFAS materials for semiconductor?
４．What’s Lithography materials?
５．How can we substitute PFAS?
質疑応答
【講演者の最大のPRポイント】
化学メーカーでの幅広い組成開発の経験やプロモーションの経験がある一方で、装置メーカーでのプロセスエンジニアとしての経験からレジストプロセスにも長けています。
PFAS freeを達成する上で必要な材料開発及びプロセス開発両方の知識を携えている数少ない貴重なエンジニアと自負しています。
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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