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IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！

2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版 　　 　　

8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～」Zoomセミナーを開講予定

2024年7月17日 12時13分 AndTech 　　 　　

6月21日(金) AndTech「ナノインプリントリソグラフィと光学デバイス・半導体製造・EUVレジスト開発の展望」Zoomセミナー講座を開講予定

2024年5月23日 20時08分 AndTech 　　 　　

2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速

2024年3月27日 09時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

03月14日(木)　AndTech「次世代レジストにおける技術開発動向・設計と反応機構・性能評価」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

2024年2月27日 09時57分 AndTech 　　 　　

3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発

2023年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

11月29日(水) AndTech「EUVリソグラフィ技術と半導体微細化に向けた最新動向～レジスト・光源・フォトマスクブランクス・塗布現象装置の変遷と開発動向～」WEBZoomセミナー講座を開講予定

2023年10月27日 11時41分 AndTech 　　 　　

5月25日(木)　AndTech「EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望　～目指すべき半導体業界の将来像～」Zoomセミナー講座を開講予定

2023年4月27日 11時06分 AndTech 　　 　　

「極端紫外線露光世代の半導体測長SEMの開発と高精度化」で「第69回大河内記念生産賞」を受賞

2023年3月23日 16時08分 日立ハイテク 　　 　　

台湾に先端ロジック半導体向け材料の新プラントを建設

2022年2月17日 13時00分 ＡＤＥＫＡ