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【ＡＤＥＫＡ】次世代EUVリソグラフィ向けMOR用金属化合物の新プラントを建設

2025年10月31日 11時00分 ＡＤＥＫＡ 　　 　　

6月24日(火) AndTech「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定

2025年4月25日 18時04分 AndTech 　　 　　

EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成

2024年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

「SEMICON Japan 2024」に出展

2024年12月2日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！

2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版 　　 　　

8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～」Zoomセミナーを開講予定

2024年7月17日 12時13分 AndTech 　　 　　

6月21日(金) AndTech「ナノインプリントリソグラフィと光学デバイス・半導体製造・EUVレジスト開発の展望」Zoomセミナー講座を開講予定

2024年5月23日 20時08分 AndTech 　　 　　

2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速

2024年3月27日 09時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

03月14日(木)　AndTech「次世代レジストにおける技術開発動向・設計と反応機構・性能評価」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

2024年2月27日 09時57分 AndTech 　　 　　

3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発

2023年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP）