6月19日(金) AndTech「ナノインプリントによる微細構造形成技術と光学デバイスへの応用~ウエハレベルレンズ・偏光素子・ガラスナノインプリントと光電融合~」WEBセミナーを開講予定

【①芝浦機械株式会社:小久保 氏】【②産総研:穂苅 氏】【③日本板硝子株式会社:壹岐 氏】の、3名の専門家に解説いただきます。

AndTech

 株式会社AndTech(本社:神奈川県川崎市、代表取締役社長:陶山 正夫、以下 AndTech)は

 「ナノインプリント」と「光学部材への応用」に関する講座を開講します。

 

 ― 光学部材から光電融合まで、レンズ・偏光・光制御を実現する微細構造形成技術 ―

 ナノインプリント技術は、レンズ、偏光素子、光制御部材などの微細光学構造を高精度かつ高効率に形成できる技術として注目されています。近年では、大面積化を可能とするRoll to Rollプロセスや、ガラス材料への適用による高耐久光学素子の開発が進み、光学デバイス分野での活用が拡大しています。
 

 本講座では、ナノインプリント装置・プロセス技術から、ウエハレベルレンズ、偏光素子、ガラス微小光学素子、さらには光電融合パッケージへの応用まで、最新の技術動向を解説します。

Live配信・WEBセミナー講習会 概要

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テーマ:ナノインプリントによる微細構造形成技術と光学デバイスへの応用~ウエハレベルレンズ・偏光素子・ガラスナノインプリントと光電融合~

開催日時:2026年06月19日(金) 13:00-17:35

参加費:55,000円(税込) ※ 電子にて資料配布予定

URL:https://andtech.co.jp/seminars/1f14d188-6c0b-67e4-92d7-064fb9a95405

WEB配信形式:Zoom(お申し込み後、URLを送付)

セミナー講習会内容構成

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第1講:13:00-15:00(芝浦機械株式会社:小久保 氏)

 「ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例」

第2講:15:10-16:25(産総研:穂苅 氏)

 「ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発」

第3講:16:35-17:35(日本板硝子株式会社:壹岐 氏)

 「ガラス材料とナノインプリント技術の融合による微小光学素子への展開、及びオプトエレクトロニクスデバイスへの応用」

本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題

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 ①ナノインプリント技術の基礎原理と特徴

 ②ナノインプリント装置の設計と評価

 ③偏光素子や調光ブラインドへの応用例

 ④ゾルゲルガラスとガラスナノインプリントによる加工技術

本セミナーの受講形式

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 WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。

 詳細は、お申し込み後お伝えいたします。

下記プログラム全項目(詳細が気になる方は是非ご覧ください)

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第1部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例

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芝浦機械株式会社

常務執行役員 R&Dセンター センター長:

小久保 光典 氏

【講演主旨】

 LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズの製作、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWire Grid Polarizer (ワイヤーグリッド偏光子)といった実際のデバイスに適用した発表事例を紹介します。

【プログラム】

1. 芝浦機械株式会社の紹介

2. ナノインプリントプロセス

 2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴

 2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例

 2.3 ナノインプリント装置構成と特徴

3. ナノインプリント装置と転写事例の紹介

 3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series

 3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series

4. ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介

 4.1 LED

  4.1.1 プロセス説明

  4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製

  4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置  ST50S-LED

 4.2 WLL(Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ)

  4.2.1 プロセス説明

  4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作

  4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL

 4.3 ワイヤーグリッド偏光子(大面積転写)

  4.3.1 プロセス説明

  4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積(G2(370×470mm))サイズのWGP作製(残膜(RLT:Residual Layer Thickness)目標50nm以下への挑戦

  4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP

5. 装置開発の課題と今後の展望 & 質疑応答

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第2部 ナノインプリントを用いた光学部材の研究開発

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国立研究開発法人産業技術総合研究所

製造基盤技術研究部門 表面機能・トライボロジー研究グループ:

穂苅 遼平 氏

【講演主旨】

ナノインプリントを基盤に、光を操るナノ構造の原理から、偏光素子・調光ブラインドへの応用、社会実装を見据えた加工技術を紹介します。

【プログラム】

1. 研究背景と技術の位置づけ
 1.1 微細構造による機能発現(光・ぬれ・表面機能)
 1.2 ナノインプリント技術による光学部材の動向
 1.3 従来技術の課題

2. ナノインプリントと印刷技術の基礎
 2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
 2.2 モールド作製方法の例
 2.3 各種印刷技術とその特徴
 2.4 印刷技術の課題

3. ナノ印刷プロセスの開発
 3.1 ナノインプリント技術と印刷技術を融合したナノ印刷プロセスの開発
 3.2 プロセス設計のポイント

4. ナノインプリントを基盤とした光学部材の研究開発
 4.1 微細配線から光学応用への展開
 4.2 ワイヤーグリッド偏光素子の原理と用途
 4.3 ナノ印刷による偏光シート
 4.4 無電解めっきによる偏光シート
 4.5 三角波状ナノ構造偏光シート
 4.6 特殊ナノ構造による調光ブラインド
 4.7 その他応用例

5. まとめ & 質疑応答

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第3部 ガラス材料とナノインプリント技術の融合による微小光学素子への展開、及びオプトエレクトロニクスデバイスへの応用

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日本板硝子株式会社

クリエイティブテクノロジー事業部門 事業開発統括部 デジタルソリューションプロジェクト部:

壹岐 耕一郎 氏

【講演主旨】

ガラスの高耐久性と樹脂並みの微細加工性を両立するナノインプリント光学素子の技術的優位性と応用展開について紹介する。

【プログラム】

1. 日本板硝子株式会社の紹介
 1.1 全社事業紹介
 1.2 クリエイティブテクノロジー事業、技術の紹介

2. マイクロ光学素子プロジェクト
 2.1 マイクロ光学素子『miGIO®』の概要
 2.2 インプリント製法
 2.3 開発品紹介(拡散素子、DOE、回折素子、ウェハレベルレンズなど)
 2.4 期待用途例の紹介

3. 低誘電フレークプロジェクト
 3.1 低誘電ガラスフレーク『HIENCYFLAKE®』の概要
 3.2 ガラスフレークの特徴
 3.3 期待用途例の紹介

4. オプトエレクトロニクスデバイスへの応用
 4.1 半導体パッケージへの展開

株式会社AndTechについて

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 化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、

 幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

 弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。

 クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。

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一流の講師のWEB講座セミナーを毎月多数開催しております。

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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。

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本件に関するお問い合わせ

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株式会社AndTech 広報PR担当 青木

メールアドレス:pr●andtech.co.jp(●を@に変更しご連絡ください)

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会社概要

株式会社AndTech

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URL
https://andtech.co.jp/
業種
サービス業
本社所在地
神奈川県川崎市多摩区登戸2833-2 パークサイドヴィラ102
電話番号
044-455-5720
代表者名
陶山 正夫
上場
未上場
資本金
300万円
設立
2009年08月