【ライブ配信セミナー】半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点　5月25日（水）開催　主催：(株)シーエムシー・リサーチ

本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点」と題するセミナーを、 講師に羽深 等 氏 横浜国立大学大学院工学研究院機能 創生部門 教授）をお迎えし、2022年5月25日（水）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：55,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
　https://cmcre.com/archives/94501/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。

半導体洗浄の基礎現象から困った時の視点と対策まで説明します。洗浄とは何のために何をどうすることか？「清浄・きれい」の意味は何か？を改めて考えると、意外なほど工程と現象が見えて来ます。ここでは、簡単な流れの例を動画で見て基礎現象の感覚をつかみ、湿式洗浄の代表的装置（枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機）の流れを可視化観察動画と計算例で解説します。超音波の効果についても動画を見るとイメージが湧いて来ます。まとめでは、足元をすくわれた時の視点と対策を簡潔に説明します。化学工学の基礎と応用の視点から説明しますので、半導体以外の洗浄をしている技術者や、洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

1）セミナーテーマ及び開催日時 
テーマ：半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点
開催日時：2022年5月25日（水）10:30～16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
　＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
　＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：羽深 等 氏 横浜国立大学大学院工学研究院機能 創生部門 教授

【セミナーで得られる知識】
半導体洗浄に関わる以下の知識と手法が得られ、洗浄時間と効果の向上に活かせます。
(1) 化学工学の基礎（工業生産プロセスの主要要素を成す流れ・熱・拡散などの考え方
(2) 流れを実感し、活用する工夫
(3) 流れの改善により工程短縮、品質向上、などを進める視点
(4) プロセスの限界を見極め、それを乗り越えるための考え方

※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

2）申し込み方法 
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
  https://cmcre.com/archives/94501/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。

3）セミナープログラムの紹介 
1） 洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

2） 一般の洗浄（洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学）

3） 半導体の洗浄に特有のこと

4） 先端技術情報
（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

5） 半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
　5-1） 表面の現象とプロセス
　（付着・脱離・引き剥がす・こする・乾かす）
　5-2） 流れ、熱、拡散、反応
　5-3） 装置内流れの種類(完全混合、押出流れ、境界層）
　5-4） 流れの可視化観察（簡単な例を動画で紹介）

6） 洗浄機内の流れと反応
　6-1） 枚葉式洗浄機
　6-1-1） 水の流れ（観察動画と計算例）
　6-1-2） 化学反応の例
　6-2） バッチ式洗浄機
　6-2-1） 水の流れ(観察動画と計算例）
　6-2-2） 水流の最適化（変えてみた例）
　6-3） バッチ式洗浄機における超音波の働き（観察）

7） まとめ：困った時の視点と対策

4）講師紹介
【講師略歴】
新潟大学 理学部 化学科 理学士（1979年3月）
京都大学大学院 理学研究科 化学専攻 理学修士（1981年3月）
広島大学大学院 工学研究科 博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業（信越半導体） 1981年4月～2000年3月
横浜国立大学 工学部 物質工学科 助教授 2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院 工学研究院機能の創生部門 教授 2002年4月～現在に至る

【研究内容】
(1) 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
(2) 半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチングのプロセス開発と解析
(3) 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

【所属学会】
応用物理学会、化学工学会、エレクトロニクス実装学会、日本結晶成長学会、空気清浄協会、米国電気化学会、米国化学会

5）セミナー対象者や特典について 
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。 

★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。


【セミナー対象者】
半導体製造に関わる企業の生産現場と開発現場で洗浄を主担当とする技術者、および、洗浄を手段として使っている技術者。
先端材料の表面を取り扱っている技術者及び研究者

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
　https://cmcre.com/archives/94501/

6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内 
〇 電磁ノイズ低減を実現するシールド技術の基礎と応用
　開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/95638/

〇 プラスチックのリサイクル技術の基礎とその使い方
　開催日時：2022年5月10日（火）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/94895/

〇 エポキシ樹脂全般の知識とフィルム化技術
　開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/93728/

〇 電磁ノイズ低減を実現するシールド技術の基礎と応用
　開催日時：2022年5月10日（火）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/95636/

〇 ゼオライトの触媒作用
　開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/95162/

〇 二酸化炭素からの有用化学品合成
　開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/93083/

〇 ウェットコーティング・単層、重層塗布方式の基礎とダイ膜厚分布・特許・塗布故障
　開催日時：2022年5月11日（水）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/95177/

〇 射出成形を事例にしたプラスチック加工の基礎と最新の加工技術
　開催日時：2022年5月12日（木）10：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/93234/

〇 ゾル-ゲル法の実務活用のための速習セミナー
　開催日時：2022年5月12日（木）13：30～16：30
　https://cmcre.com/archives/93545/

☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
　https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/

7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
　https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
                                                                                                         以上