8月26日(火) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUV、レジスト材料開…
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AndTechシステムファイブ、Hollylandワイヤレスマイクシステムのフラッグシップ第2世代「Lark MA…
株式会社システムファイブ4月25日(金) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術動向 ～基礎とレジスト材料開発例、微細化…
AndTech名市大発「光技術研究拠点」発足で森田明理教授が講演 『革新的な光技術の基盤技術開発・応用へ』
公立大学法人 名古屋市立大学触媒や添加物を使用せず光を用いてPFAS（有機フッ素化合物）を分解・無害化できる技術を開発
ウシオ2月06日(火) AndTech「EUVリソグラフィ技術と半導体微細化に向けた最新動向」WEBオン…
AndTech11月29日(水) AndTech「EUVリソグラフィ技術と半導体微細化に向けた最新動向～レジスト・…
AndTech日本カルミック ウシオ電機が手がける紫外線技術Care222™照射を用いた除菌・ウイルス除去サービス…
日本カルミック株式会社学校や商業施設などの有人環境下にそのまま設置・使用できる222nm紫外線ウイルス抑制・除菌ユニット「…
ウシオウシオ電機と東芝ライテックが紫外線除菌・ウイルス抑制装置を共同開発。車載用／鉄道車両用、一般照明向け…
ウシオリーズナブルな「レーザー保護メガネ」の提供開始
株式会社光響