フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology」に参加

2025年9月26日

株式会社ニューフレアテクノロジー 

ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2025年9月22日から25日まで米国カリフォルニア州モントレー市で開催された「SPIE Photomask Technology」に参加しました。

本学会は、 光学やフォトニクスの分野における国際学会であるSPIE(The International Society for Optical Engineering, 国際光工学会)が毎年開催しているもので、フォトマスクとパターニング、計測器、測定、材料、検査、修理、マスクビジネス、High-NA EUVリソグラフィーなどに関する国際的技術会議です。

NFTは、本会議には毎年参加しており、今年もマルチ電子ビームマスク描画装置に関する最新の開発状況について１件の口頭発表、１件のポスター発表を行っています。

< SPIE Photomask TechnologyでのNFTの口頭発表／ポスター発表>

Session

Paper 13687-1

MBM-4000 multi-beam mask writer enabling mask fabrication for a new era

Author(s): Kenichi Yasui, Jumpei Yasuda, Haruyuki Nomura, Hiroshi Matsumoto, Tomoo Motosugi, Hayato Kimura, Yoshinori Kojima, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Presenter

Kenichi Yasui, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Poster Session Paper 13687-113

Electron multibeam mask writer for mature nodes: MBM-2000C

Author(s): Issei Aibara, Masashi Uchiya, Takuma Abe, Hiroshi Matsumoto, Yoshinori Kojima, Masato Saito, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

Presenter：Issei Aibara, NuFlare Technology, Inc. (Japan)

関連リンク：

Photomask Technology 2025, Conference Details

以上