MAP（※1）プロジェクトにおいて、研究開発拠点を開所いたしました
株式会社クオルテック（本社：大阪府堺市、代表取締役社長：山口友宏、以下「クオルテック」）は、「MAPプロジェクト」を7月にスタートしました。本プロジェクトでは、立命館大学総合科学技術研究機構の高橋 勲客員教授と共同研究を行います。この度、研究開発を加速させるため立命館大学びわこ・くさつキャンパス テクノコンプレクス産学連携ラボラトリーに研究開発拠点を開所いたしました。（2025年9月2日）
〈研究目的〉
独自に開発したミストめっき法により、従来のめっき技術では困難であった絶縁体上等への各種金属の成膜技術開発を行います。本手法は従来のめっきプロセスで問題となっていた大量の廃液処理の課題を解決します。さらに、ウェットからドライプロセスへ転換することで、めっき液の水洗に使用される大量の水の削減にも貢献することができます。これにより環境負荷の極めて小さな新しいめっき技術を提供することができます。
〈研究内容〉
従来のめっきプロセスで利用されている銅、ニッケル、クロム等の金属をガラス、樹脂、セラミック等の絶縁体上に成膜し、膜の特性や密着性の評価を行います。また、白金等の貴金属製品の代替として、安価な基材の表面に貴金属をコーティングした製品の開発を行います。これにより貴金属の使用量を10分の1以下に減らすことができます。
〈開発体制〉
〈開発スケジュール〉
クオルテックでは、5か年計画で下記スケジュールにて研究開発を進めてまいります。
〈参考情報〉
前回プレスリリースいたしました「MAPプロジェクト」はこちら
〈会社概要〉
■株式会社クオルテック
代表取締役社長：山口友宏 本社所在地：大阪府堺市堺区三宝町4丁230番地
事業内容：
・半導体、電子部品の不良解析・信頼性試験の受託および新技術の開発
・品質管理を中心とした工場経営、実装技術に関するコンサルタント
・レーザ加工・表面処理（めっき）技術を中心とした微細加工
・試験装置の設計・開発・製造・販売
＜備考＞
※1 Mist-Assisted universal Platingの略称
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