東レリサーチセンター、半導体の中心地 台湾・新竹で半導体分野のセミナーを初開催

~台湾半導体産業との技術交流を通じ、AI 時代を支える日本企業の台湾展開を支援~

株式会社東レリサーチセンター

【要旨】

株式会社東レリサーチセンター(所在地:東京都中央区日本橋本町一丁目7 番2 号、代

表取締役社長:真壁芳樹、以下「TRC」)は、2026 年4 月17 日、世界有数の半導体技術拠

点である台湾・新竹にて、半導体分野の最先端解析技術を紹介するプライベートセミナー

を開催します。日本の分析会社が新竹で単独開催する技術セミナーは稀であり、TRC とし

ても初の取り組みとなります。

台湾で研究・技術開発・製造を行う、または今後進出を検討している日本企業を対象に、

現地の技術課題解決に向けた分析・評価による支援を、より円滑に提供することを目的と

しています。

これにより、台湾企業・アカデミアとの技術交流を深化させるとともに、日本企業の現

地における研究・技術開発・製造・協業を、分析・評価の側面から支援体制を強化します。

TRC は約20 年にわたる台湾での事業経験を基盤に、半導体技術連携を加速させる“橋渡し

役”としてのプレゼンス強化を図ります。

【背景】

台湾・新竹は、世界最大級の半導体ファウンドリー(*1)企業をはじめ、多くの半導体関

連企業・研究機関が集積する世界有数の半導体技術拠点です。近年、AI 技術の急速な進化

に伴う先端半導体の需要拡大を背景に、日本企業による台湾での研究・技術開発や製造拠

点の展開も活発化しており、技術連携の重要性は一層高まっています。

TRC は約20 年にわたって台湾での事業を展開し、現地エージェントを通じて、日本企

業・台湾企業双方に高度な分析・評価サービスを提供してきました。日本語・中国語・英

語での対応や試料輸送の手配を含め、日本国内の最先端分析設備を活用した解析サービス

を円滑に提供できる体制を構築しています。

【セミナーの概要】

半導体デバイスの微細化・三次元化が進展する中、界面構造や電子状態を高精度に把握

する解析技術の重要性が高まっています。開催するセミナーでは、次世代半導体開発で課

題となる「見えにくい界面・内部構造をどのように評価するか」をテーマに、第一線の専

門家による講演と、TRC の解析事例を紹介します。

基調講演には、半導体製造装置メーカーである株式会社SCREEN ホールディングス顧問の

奥野泰利博士を迎え、次世代半導体デバイスに含まれるナノメーターオーダーの多層積

層薄膜における界面の可視化とその重要性について講演いただきます。続いて、TRC の研

究者より、放射光(*2)を用いた電子状態解析や、極薄絶縁膜・次世代トランジスタ構造に

対応した解析技術について、実際の課題解決につながる視点から解説します。

【開催概要】

・日時:2026 年4 月17 日(金)13:15~

・会場:Ambassador Hotel Hsinchu(台湾・新竹)

・詳細:https://www.toray-research.co.jp/en/news/article.html?contentId=3cvn39qlux

半導体の高度化・微細化に伴い、原子・ナノレベルでの観察や薄膜界面、電子状態の精

密解析が不可欠です。本セミナーでは、先端デバイスの評価課題に対する分析・評価手法

を通じて、研究・技術開発や品質・信頼性評価における判断精度を高める知見を提供しま

す。

【今後について】

TRC は、最先端の分析・解析技術を通じて、材料開発や半導体デバイス開発における課

題解決を支援してきました。今後も台湾半導体産業との技術交流を深化させるとともに、

研究・技術開発・製造・協業を進める日本企業に対して、言語対応や試料輸送を含む実務

面も踏まえた分析支援を提供することで、半導体分野のさらなる発展とAI 技術のさらなる

進化に貢献していきます。

【用語説明】

(*1)半導体ファウンドリー:自社ブランド製品を持たず、他社設計の半導体を受託製造す

る企業。

(*2)放射光:電子を光速近くまで加速して得られる高輝度の光で、原子・電子レベルの精

密解析に用いられる。

このプレスリリースには、メディア関係者向けの情報があります

メディアユーザー登録を行うと、企業担当者の連絡先や、イベント・記者会見の情報など様々な特記情報を閲覧できます。※内容はプレスリリースにより異なります。

すべての画像


会社概要

URL
https://www.toray-research.co.jp/
業種
サービス業
本社所在地
東京都中央区日本橋本町一丁目7番2号 KDX江戸橋ビル6階
電話番号
03-3245-5633
代表者名
真壁 芳樹
上場
未上場
資本金
2億5000万円
設立
1978年06月