国産初の半導体露光装置「PPC-1」発売から50周年

キヤノンが、国産初の半導体露光装置「PPC-1(※1)」を1970年に発売し、半導体露光装置事業に本格参入して今年で50周年を迎えます。スマホから自動車まで幅広く搭載されている半導体デバイスの製造には、半導体露光装置が必要不可欠です。デジタル技術の高度化に合わせ、キヤノンの半導体露光装置も進化し続けてきました。

国産初の半導体露光装置「PPC-1」

 

50周年記念ロゴ

キヤノンの露光装置の歴史は、カメラのレンズ技術を高度に応用したことから始まります。1960年代半ばにカメラのレンズ開発で培った技術を活用し、フォトマスク製造用の高解像力レンズを開発しました。その後さらなる事業の拡大を目指し、半導体露光装置の開発を開始、1970年に国産初の半導体露光装置「PPC-1」を発売し、半導体露光装置事業に参入しました。
1975年に発売した「FPA-141F」は、世界で初めて1ミクロン(※2)以下の露光を実現し、2010年に国立科学博物館の産業技術史資料情報センターに「重要科学技術史資料（未来技術遺産）」として登録されました。

現在のキヤノンの半導体露光装置は、i線露光装置(※3)やKrF露光装置(※4)をラインアップにとりそろえ、時代のニーズに合わせて活用の幅を広げています。今後もさまざまなサイズ・材質のウエハーや、次世代パッケージ(※5)プロセスへ対応できるよう、半導体露光装置のラインアップやオプション機能を拡充していきます。さらに、先端領域では回路パターンのさらなる微細化ニーズに応えるべく、ナノインプリント半導体製造装置(※6)の開発を進め、量産プロセスへの適用をめざしています。

また、1986年からは、半導体露光装置の技術をディスプレイ製造に応用したフラットパネルディスプレイ露光装置の開発、製造、販売も行ってきました。今後も高精細化や生産性の向上を継続し、液晶・有機ELディスプレイの製造ニーズに応えます。

50周年を迎え、これからもキヤノンの露光装置は技術に磨きをかけ、社会の発展に貢献します。

【半導体露光装置技術紹介】https://global.canon/ja/technology/support29.html

※1　PPCは、Projection Print Cameraの略。発売当時は半導体露光装置ではなく、半導体焼付装置と呼んでいた。
※2  ミクロンはマイクロメートルのこと。1マイクロメートルは100万分の1メートル。
※3　i線（水銀ランプ波長 365nm）の光源を利用した半導体露光装置。1nm（ナノメートル）は10億分の1メートル。
※4　露光波長が248nm、クリプトン（Kr）ガスとフッ素（F）ガスから発生させるレーザー光を利用した半導体露光装置。
※5  繊細なICチップを外部環境から保護し、実装する際に外部との電気接続を可能にすること。
※6　マスク（型）をウエハー上のレジスト（樹脂）に、スタンプのように直接押し付けることで、マスクの回路パターンを忠実に転写することができ、従来の光露光装置に比べて高解像なパターンを描けることが特長。