【ライブ配信セミナー】EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用　11月18日（木）開催　主催：(株)シーエムシー・リサーチ

本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用」と題するセミナーを、 講師に渡邊 健夫 氏  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長　極端紫外線リソグラフィー研究開発 センター長 教授）をお迎えし、2021年11月18日（木）13:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：44,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：39,600円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
　https://cmcre.com/archives/85914/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。

EUVリソグラフィ（EUVL）は2020年よりスマートフォン用のロジックデバイスの量産技術として適用されました。しかしながら、今後のEUVLではまだまだ多くのレジスト、マスク等の基盤技術課題が残っています。これらの技術課題の解決にはこの技術の基礎を理解し、その上で課題克服および今後の展開と言った応用展開をする必要があります。また、世界における日本の半導体技術覇権の課題についても言及いたします。今回の講座を通じて少しでもお役に立てればと存じます。

1）セミナーテーマ及び開催日時 
テーマ：EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用
開催日時：2021年11月18日（木）13:30～16:30
参 加 費：44,000円（税込） ※ 資料付
　　＊ メルマガ登録者は 39,600円（税込）
　　＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：渡邊 健夫 氏 
　　　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長　
　　　極端紫外線リソグラフィー研究開発 センター長 教授

【セミナーで得られる知識】
半導体微細加工の変遷と必要性
EUVリソグラフィ（EUVL）技術開発の歴史
EUVLの基礎知識(レジスト、マスク、ペリクル、光学、光源等)
今後のEUVL技術展開、世界の半導体市場動向、日本の半導体技術分野の復興についての考え方

※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

2）申し込み方法 
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
  https://cmcre.com/archives/85914/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。

3）セミナープログラムの紹介
1．はじめに
2．半導体市場動向と半導体国際ロードマップ
3．半導体微細加工の変遷とその必要性・効果
4．EUVリソグラフィ技術の歴史
　多層膜技術、EUV用露光技術
5．EUVマスク技術
6．EUVレジスト技術
7．兵庫県立大学におけるEUVリソグラフィ技術開発への取組
8．Beyond EUV 次世代リソグラフィ技術
9．世界における日本の半導体技術覇権の課題およびこの克服に向けて
10．まとめ

4）講師紹介
【講師経歴】
1990年　大阪市立大学大学院 理学研究科 後期博士課程修了 理学博士。
1990年　シャープ（株） 中央研究所 DRAMの研究開発に従事（i線、KrF、電子線、X線等倍、EUVの各リソグラフィの技術開発に従事）。
1996年　旧 姫路工業大学 高度産業科学技術研究所 助手。極端紫外線リソグラ
フィの研究開発に従事。
2004年　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教。極端紫外線リソグラフィの研究開発に従事。
2008年　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授。
2015年　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 教授。同研究所 極端紫外線リソグラフィ研究開発センター センター長。
2016年　兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授。現在に致る
【著　書】
「リソグラフィー技術その40年」（共著）、S&T出版、2016.12.9.他 18件（共著書を含む）・学術論文 240件以上・特許 多数
【受賞歴】
1) 大阪ニュークリアサイエンス協会賞 受賞, 2016.5.26.
2) 2013 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2013.6.14.
3) 2008 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2008.6.12.
4) 第7回 日本物理学会 論文賞 受賞, 渡邊健夫他、3月26日，2002.
【研究歴】
EUV リソグラフィ技術開発は1993年より従事
【学会活動】
IRDS 半導体国際ロードマップ 委員、システムデバイス（SDRJ）ロードマップ 委員、Photomask Japan 組織委員長、フォトポリマー学会 理事・国際局長・EUVL 国際シンポジウムチェアマン、フォトポリマー懇話会 運営委員、IEPBN 論文委員
【所属学会】
SPIE、IEEE、応用物理学会、高分子学会、日本放射光学会
【メディア報道】
ラジオ関西、三上公也の情報アサイチ！「ニュースバルの放射光が切り拓く世界～研究・教育・社会貢献の取り組み～」2018年7月9日、サンテレビ ニュース「ニュースバルの入射器新設にかかる報道機関向け内覧会」2021年4月30日、MBSラジオ 2021年5月2日 日曜コンちゃんおはようさん、MBSラジオ 2021年5月9日 日曜コンちゃん おはようさん、MBS ラジオ 2021年5月13日 こんちわコンちゃんお昼です、他 40件

5）セミナー対象者や特典について 
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。 
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

【セミナー対象者】
半導体デバイス、半導体材料、半導体製造装置のメーカーの技術責任者、マネージャー、中堅技術者、担当者（初心者も含む）等の幅広い層

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
   https://cmcre.com/archives/85914/

6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内 
〇　身体洗浄料の起泡力・抗菌/抗ウイルス力の制御と界面活性剤
　　開催日時：2021年11月5日（金）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/76160/

〇　EV関連技術の現状と課題（カーボンニュートラルに向けて）
　　開催日時：2021年11月5日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86588/

〇　CO2の排出量削減とCO2からの化学品製造の現状と課題、今後の展望
　　開催日時：2021年11月5日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/84643/

〇　リビング重合の基礎と応用：高分子の精密合成から構造制御材料へ
　　開催日時：2021年11月8日（月）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85993/

〇　ミリ波帯電波吸収体、遮へい材、透過材の考え方と設計例
　　開催日時：2021年11月8日（月）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/71106/

〇　CO2分離回収技術の進展と実用化への展望
　　開催日時：2021年11月8日（月）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85220/

〇　停車中と走行中ワイヤレス充電の課題と研究開発の紹介
　　開催日時：2021年11月9日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85812/

〇　プラスチックのリサイクル技術の基礎とその使い方
　　開催日時：2021年11月9日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/83044/

〇　葉緑体とミトコンドリアのゲノムを中心としたゲノム編集技術の基礎と応用
　　開催日時：2021年11月9日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85837/

〇　官能評価の基礎と手順・手法の勘所
　　開催日時：2021年11月10日（水）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85086/

〇　メタネーション技術の過去・現在・未来
　　開催日時：2021年11月10日（水）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86728/

〇　薬物送達システムによる免疫活性化の基礎と応用
　　開催日時：2021年11月10日（水）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/84878/

〇　消泡剤の基礎と選定方法
　　開催日時：2021年11月11日（木）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/85397/

〇　ノンパラと多変量解析入門
　　開催日時：2021年11月11日（木）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86482/

〇　技術者・研究者向け特許戦略
　　開催日時：2021年11月11日（木）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86867/

〇　事業活動の活性化に必須となる実践知的財産スキル　〜 オンライン知財活動を活性化する 〜
　　開催日時：2021年11月11日（木）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/84640/

〇　泡・消泡の基礎と必要な界面活性剤の基礎知識
　　開催日時：2021年11月12日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/82873/

〇　火災事故に学ぶ、LiB電池の安全対策
　　開催日時：　2021年11月12日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86026/

〇　塗布膜乾燥のメカニズムと乾燥トラブル対策
　　開催日時：2021年11月12日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/86361/

☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
   https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/

7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
   https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
                                                                                                        以上