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UV ナノインプリントを用いた シリコンフォトニクス半導体プロセスを開発−光電融合も見据えたシリコンフォトニクス分野拡⼤へ−

2025年1月29日 13時22分 東京応化工業株式会社 　　 　　

経済産業省が定める「DX認定事業者」の認定取得

2025年1月24日 20時00分 東京応化工業株式会社 　　 　　

10 nm の限界を突破！線幅 7.6 nm の半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功

2024年8月22日 15時30分 東京応化工業株式会社 　　 　　

阿蘇工場 阿蘇くまもとサイトにおける新工場の竣工に関するお知らせ

2024年6月6日 15時00分 東京応化工業株式会社