株式会社NIL、特許「皮膚外用剤、肌質改善剤及び日焼け防止剤」が登録。— 伝統素材シコニンの独自高濃度抽出 × 分散技術でスキンケア領域へ本格展開 — 2025年11月27日 16時10分 株式会社NIL
半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」「Adastra」が2024年度グッドデザイン金賞を受賞 ベスト100にミラーレスカメラ「EOS R5 Mark II」など5件が選出 2024年10月16日 14時00分 キヤノン株式会社
8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～」Zoomセミナーを開講予定 2024年7月17日 12時13分 AndTech
キヤノンが「Advanced Packaging and Chiplet Summit（APCS）」に出展 生成AIにより需要が拡大する後工程向け半導体露光装置など幅広い製品を展示 2023年11月29日 13時00分 キヤノン株式会社
株式会社NIL、特許「皮膚外用剤、肌質改善剤及び日焼け防止剤」が登録。— 伝統素材シコニンの独自高濃度抽出 × 分散技術でスキンケア領域へ本格展開 — 2025年11月27日 16時10分 株式会社NIL
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