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株式会社ヘテロスタックス、リアルテックファンドを引受先とする第三者割当増資を実施
2026年6月19日 10時00分
株式会社ヘテロスタックス
テクトロニクス、高電圧差動プローブおよび電流シャント新製品を発表。微小電流解析から高電圧パワー検証まで測定カバー領域をさらに拡大
2026年6月18日 10時00分
テクトロニクス
業界初、固形エポキシ樹脂で世界最高クラスのTg230℃を実現したSiCパワーモジュール封止材料向け「G785シリーズ」量産開始
2026年6月1日 10時21分
住友ベークライト株式会社
ロームのSiC MOSFETが、HVDC化が進むAIサーバー向けBBUに採用
2026年5月21日 10時00分
ローム株式会社
きらぼしベンチャー研究開発支援事業助成金公募開始について
2026年5月20日 12時57分
株式会社さがみはら産業創造センター
「パワー半導体用高品質SiCエピウェハーの高生産性製造技術」が「市村産業賞」貢献賞を受賞
2026年5月7日 12時00分
レゾナック・ホールディングス
神奈川県「令和8年度宇宙関連企業交流拠点事業」を受託
2026年4月22日 17時30分
株式会社さがみはら産業創造センター
高温時オン抵抗を約30%低減!第5世代SiC MOSFETを開発
2026年4月21日 09時00分
ローム株式会社
東京エレクトロンデバイスとアイテス、SiCデバイスの潜在欠陥をウェーハレベルで可視化する検査ソリューションで協業
2026年4月14日 11時00分
東京エレクトロン デバイス株式会社
新電元工業、SiCショットキーバリアダイオードの基礎・特性・使いどころを解説するオンデマンド配信を開始
2026年4月8日 10時00分
新電元工業株式会社
もっと見る
株式会社ヘテロスタックス、リアルテックファンドを引受先とする第三者割当増資を実施
2026年6月19日 10時00分
株式会社ヘテロスタックス
テクトロニクス、高電圧差動プローブおよび電流シャント新製品を発表。微小電流解析から高電圧パワー検証まで測定カバー領域をさらに拡大
2026年6月18日 10時00分
テクトロニクス
業界初、固形エポキシ樹脂で世界最高クラスのTg230℃を実現したSiCパワーモジュール封止材料向け「G785シリーズ」量産開始
2026年6月1日 10時21分
住友ベークライト株式会社
ロームのSiC MOSFETが、HVDC化が進むAIサーバー向けBBUに採用
2026年5月21日 10時00分
ローム株式会社
きらぼしベンチャー研究開発支援事業助成金公募開始について
2026年5月20日 12時57分
株式会社さがみはら産業創造センター
「パワー半導体用高品質SiCエピウェハーの高生産性製造技術」が「市村産業賞」貢献賞を受賞
2026年5月7日 12時00分
レゾナック・ホールディングス
神奈川県「令和8年度宇宙関連企業交流拠点事業」を受託
2026年4月22日 17時30分
株式会社さがみはら産業創造センター
高温時オン抵抗を約30%低減!第5世代SiC MOSFETを開発
2026年4月21日 09時00分
ローム株式会社
東京エレクトロンデバイスとアイテス、SiCデバイスの潜在欠陥をウェーハレベルで可視化する検査ソリューションで協業
2026年4月14日 11時00分
東京エレクトロン デバイス株式会社
新電元工業、SiCショットキーバリアダイオードの基礎・特性・使いどころを解説するオンデマンド配信を開始
2026年4月8日 10時00分
新電元工業株式会社
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