テクセンドフォトマスク、ナノインプリント技術研究会主催「NNT2026」に出展・講演

次世代デバイスを支える、最新のナノインプリント用マスターモールド製造技術をご紹介

テクセンドフォトマスク株式会社

2026年10月7日 10時40分

テクセンドフォトマスク株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長執行役員 CEO：二ノ宮照雄、以下テクセンドフォトマスク）は、公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会主催の国際会議「NNT2026」に出展・講演をいたします。

同会議は2026年10月13日（火）から16日（金）までの4日間、宮城県仙台市の仙台サンプラザで開催されます。ナノインプリント・ナノプリント技術に関する研究成果や、最新技術を発表、共有する場として開催され、大学・研究機関、企業などが参加します。プロセス、材料、装置に加え、エレクトロニクス、光学、バイオテクノロジー、エネルギーなどの分野における応用まで、幅広いテーマが取り上げられます。

テクセンドフォトマスクは、同会議にて、ブース出展及び講演をいたします。出展ブースでは、最先端の電子線リソグラフィと革新的なエッチング技術によって実現するナノインプリント用マスターモールドとナノインプリント試作・開発サービスをご紹介いたします。

また講演では、AR/VR用光学部品においてデバイスの性能に不可欠な、ナノスケールの微細構造の形成に活用されているナノインプリントリソグラフィ（NIL）について、その基盤となるマスターモールドの製造技術をご紹介します。複雑なパターン形状やプロファイルをマスターモールドに直接形成するテクセンドフォトマスクの技術と、それによるナノインプリントリソグラフィプロセスの簡素化について解説します。

■ イベント開催概要

日程：2026年10月13日（火）から16日（金）

場所：仙台サンプラザ (宮城県仙台市宮城野区榴岡5-11-1)

　　　公式サイト: https://nanoimprint.jp/nnt2026/

　　　※詳細につきましては、イベント公式サイトをご確認ください。

■ 出展情報

出展期間: 2026年10月14日(水)、15日(木)

ブース番号: 6

■ 講演情報

日時: 2026年10月15日(木) 12時5分から

テーマ: NIL Mastering: Enabling the Next Generation of Nano Manufacturing

<講演者>

氏名: Bríd Connolly

テクセンドフォトマスクマーケティングマネージャー。製品開発や戦略的アライアンスを通じて、フォトマスクおよびリソグラフィの用途拡大を担当。フォトマスク業界において、プロセスエンジニアリング、技術サポート、営業、テクニカルマーケティング、事業開発、ナノインプリントリソグラフィ向け製品開発など、幅広い経験を有する。ダブリンシティ大学で応用物理学の学位を取得。