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EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成

2024年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

「SEMICON Japan 2024」に出展

2024年12月2日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

07月31日(水) AndTech「EUVリソグラフィにおける最新微細化動向とフォトマスクを中心とした課題・欠陥低減技術～マスク・ペリクル・欠陥検査技術・ブランクス～」 Zoomセミナー講座を開講予定

2024年6月26日 10時58分 AndTech 　　 　　

2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速

2024年3月27日 09時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

トッパンフォトマスク、IBMとEUVフォトマスクの共同開発を開始

2024年2月7日 10時08分 TOPPANホールディングス株式会社 　　 　　

3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発

2023年12月12日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

「SEMICON Japan 2023」に出展

2023年12月4日 10時00分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

パーク・システムズ、EUV・インライン用フォトマスクリペア装置「Park NX-Mask」のリリースを発表

2022年10月31日 14時00分 82315466847 　　 　　

大日本印刷、産総研の「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」に参画

2022年6月17日 14時20分 大日本印刷（DNP） 　　 　　

凸版印刷、半導体原版メーカーを会社分割により設立

2022年4月1日 17時32分 TOPPANホールディングス株式会社