IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売! 2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版
業界最高レベルのダイナミックレンジを実現した監視用途向けCMOSセンサーを開発 領域ごとに最適露光を自動決定することで移動する被写体の認識精度が向上 2023年1月12日 13時00分 キヤノン株式会社
IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売! 2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版
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