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小型基板向け半導体露光装置“FPA-3030i6”を発売　新開発レンズ採用と多彩なオプションにより市場が拡大するパワーデバイス製造に対応

2024年9月24日 13時00分 キヤノン株式会社 　　 　　

IoT時代に求められる半導体プロセスの微細化と、3次元構造に対応するフォトレジスト材料の最適化技術を詳解。次世代EUVリソグラフィーの導入に向けた動向を網羅した1冊が普及版となって発売！

2024年8月8日 13時50分 株式会社シーエムシー出版 　　 　　

2月06日(火) 　AndTech「EUVリソグラフィ技術と半導体微細化に向けた最新動向」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定

2024年1月31日 10時08分 AndTech 　　 　　

ウシオとアプライド マテリアルズ、AI時代のより強力なコンピューティングシステムを可能にする画期的デジタルリソグラフィ技術を発表

2023年12月13日 06時07分 ウシオ電機株式会社 　　 　　

8インチ対応のプロキシミティ露光機 PXSシリーズを販売開始

2023年6月27日 14時33分 ウシオライティング株式会社 　　 　　

AndTech　「EUVリソグラフィ技術 ～レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状～ 」の書籍を刊行

2023年5月23日 15時02分 AndTech 　　 　　

業界最高レベルのダイナミックレンジを実現した監視用途向けCMOSセンサーを開発　領域ごとに最適露光を自動決定することで移動する被写体の認識精度が向上

2023年1月12日 13時00分 キヤノン株式会社 　　 　　

2月24日(木)　AndTech　WEBオンライン「レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向」Zoomセミナー講座を開講予定

2022年1月17日 14時38分 AndTech 　　 　　

●新発売●どんなスタイルにも合わせやすいクラシックなデザインのチェキが新登場！インスタントカメラ“チェキ”「instax(インスタックス) mini 40」

2021年4月7日 14時00分 富士フイルム 　　 　　

野ざらし、露光、露出、無防備を表すドメイン「.exposed」の一般登録受付を5月22日午前1時から開始します。

2014年5月21日 19時21分 株式会社インターリンク